
【电】 drift mobility
在半导体物理学中,"漂移迁移率"(Drift Mobility)是描述载流子(电子或空穴)在外加电场作用下运动能力的核心参数。其定义为载流子的平均漂移速度(v_d)与施加电场强度(E)的比值,数学表达式为: $$ mu = frac{v_d}{E} $$ 该参数直接反映材料导电性能,迁移率越高表明载流子在电场中移动效率越强。
漂移迁移率受以下主要因素影响:
在器件工程领域,迁移率参数对MOSFET跨导、太阳能电池载流子收集效率等关键指标具有决定性作用。国际半导体技术路线图(ITRS)特别指出,迁移率优化是纳米级器件性能提升的核心挑战之一。
权威参考文献: 《半导体物理与器件》第4版,Neamen著,McGraw-Hill出版 施敏《半导体器件物理》第三章载流子输运理论 IEEE Electron Device Letters关于高迁移率沟道材料的研究论文
漂移迁移率是半导体物理学中的重要概念,主要用于描述载流子在电场作用下的迁移能力。以下是详细解释:
漂移迁移率(Drift Mobility)指非平衡载流子(如电子或空穴)在电场作用下产生的平均漂移速度与电场强度绝对值的比值。其物理意义在于衡量载流子在外加电场中的运动效率,直接决定半导体的导电性能。
根据实验测量方法,漂移迁移率的公式为: $$ mu = frac{x}{|E| cdot t} $$ 其中:
更一般化的表达式为: $$ mu = frac{v_d}{|E|} $$ 其中 ( v_d ) 为载流子的平均漂移速度。
漂移迁移率的国际单位为cm²/(V·s),表示每伏特电场下每秒载流子移动的平方厘米距离。
漂移迁移率通过量化载流子对电场的响应能力,为半导体材料的性能评估和器件优化提供了核心依据。其测量与计算在光电子学、集成电路设计等领域具有广泛应用。
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