【計】 mesa mask
broadcasting station; dais; desk; platform; stage; support; table
【醫】 table
face; surface; cover; directly; range; scale; side
【醫】 face; facies; facio-; prosopo-; surface
【計】 masking
台面掩模（Mesa Mask）是半導體制造與微電子加工中的關鍵技術術語，指通過光刻和蝕刻工藝在半導體材料表面形成台地狀結構的掩模闆。該技術廣泛應用于高頻器件、光電器件（如激光二極管）和功率半導體器件的制備中，其核心作用是定義器件的三維幾何形狀，從而實現電學性能的優化控制。
工藝原理
應用場景
該技術被收錄于《IEEE電子器件彙刊》（IEEE Transactions on Electron Devices）的多篇工藝研究論文中，其物理機制在《半導體器件物理》（Physics of Semiconductor Devices, S.M. Sze著）第三章有詳細論述。
台面掩模是半導體制造中的關鍵工藝工具，主要用于定義器件表面的台面結構。以下是詳細解釋：
基本定義 台面掩模指在光刻工藝中用于形成台面（Mesa）結構的掩模闆。這種掩模通過遮擋特定區域，使後續腐蝕或擴散工藝僅在未遮擋區域進行。
核心作用原理 • 通過不透明圖形覆蓋矽片選定區域 • 在光刻曝光後形成保護層 • 控制腐蝕工藝僅作用于非掩模區域，形成凸起的台面結構
典型應用場景 主要用于功率半導體器件制造，如：
注：台面結構可有效提高器件耐壓能力，掩模精度直接影響器件性能參數。如需更詳細的工藝流程參數，可參考半導體制造專業文獻。
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