台面掩模英文解释翻译、台面掩模的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 mesa mask

分词翻译：

台的英语翻译：

broadcasting station; dais; desk; platform; stage; support; table
【医】 table

面的英语翻译：

face; surface; cover; directly; range; scale; side
【医】 face; facies; facio-; prosopo-; surface

掩模的英语翻译：

【计】 masking

专业解析

台面掩模（Mesa Mask）是半导体制造与微电子加工中的关键技术术语，指通过光刻和蚀刻工艺在半导体材料表面形成台地状结构的掩模板。该技术广泛应用于高频器件、光电器件（如激光二极管）和功率半导体器件的制备中，其核心作用是定义器件的三维几何形状，从而实现电学性能的优化控制。

工艺原理

1. 结构特征：通过选择性蚀刻，在半导体基底上保留凸起的"台地"（mesa），周围区域被蚀刻凹陷，形成台阶状剖面。
2. 掩模功能：使用二氧化硅或氮化硅作为硬掩模材料，在光刻胶图案转移后阻挡蚀刻剂对特定区域的腐蚀。
3. 技术优势：相较于平面工艺，台面结构能有效降低寄生电容，提升器件的高频响应特性。

应用场景

• 砷化镓（GaAs）微波器件制造
• 边发射半导体激光器的电流限制层制备
• 功率MOSFET的终端结构成型

该技术被收录于《IEEE电子器件汇刊》（IEEE Transactions on Electron Devices）的多篇工艺研究论文中，其物理机制在《半导体器件物理》（Physics of Semiconductor Devices, S.M. Sze著）第三章有详细论述。

网络扩展解释

台面掩模是半导体制造中的关键工艺工具，主要用于定义器件表面的台面结构。以下是详细解释：

1. 基本定义 台面掩模指在光刻工艺中用于形成台面（Mesa）结构的掩模板。这种掩模通过遮挡特定区域，使后续腐蚀或扩散工艺仅在未遮挡区域进行。

2. 核心作用原理 • 通过不透明图形覆盖硅片选定区域 • 在光刻曝光后形成保护层 • 控制腐蚀工艺仅作用于非掩模区域，形成凸起的台面结构

3. 典型应用场景 主要用于功率半导体器件制造，如：

• IGBT芯片的终端保护区
• 肖特基二极管的电场优化结构
• 射频器件的隔离沟槽

4. 技术特性要求 需具备高精度图形（通常线宽<1μm）和强抗腐蚀性，常用材料包括铬膜石英玻璃。

注：台面结构可有效提高器件耐压能力，掩模精度直接影响器件性能参数。如需更详细的工艺流程参数，可参考半导体制造专业文献。

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