发射电流响应英文解释翻译、发射电流响应的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 transmitting current response

分词翻译：

发射电流的英语翻译：

【电】 emission current

响应的英语翻译：

answer; in answer to; respond; response
【化】 response

专业解析

在电子工程领域，"发射电流响应"（Emission Current Response）指电子发射器件（如热阴极、场发射阴极）在外部激励（电压、温度、光辐射等）作用下产生电流的动态特性与效率。其核心含义包含以下层面：

一、术语定义

发射电流 (Emission Current)
指电子从材料表面逸出形成的电流，遵循Richardson-Dushman 方程（热电子发射）：

$$ J = ATe^{-frac{W}{kT}} $$

其中 (J) 为电流密度，(A) 为材料常数，(T) 为温度，(W) 为逸出功，(k) 为玻尔兹曼常数。

来源：《真空电子技术基础》（高等教育出版社）
响应 (Response)
描述电流随激励参数（如电场强度 (E)、温度 (T)）变化的动态特性，包括：
- 瞬态响应：激励突变时的电流建立/衰减时间（如场发射阴极的纳秒级响应）
- 稳态响应：恒定激励下的电流稳定性（受材料逸出功、表面污染影响）

二、关键影响因素

材料逸出功 (Work Function)
逸出功越低，相同激励下发射电流越大。例如镧六硼化物（LaB₆）阴极逸出功约 2.7 eV，优于纯钨（4.5 eV）。

来源：美国物理学会《应用物理评论》期刊
电场增强效应 (Field Enhancement)
场致发射电流遵循Fowler-Nordheim 方程：

$$ J propto frac{E}{phi} expleft(-frac{Bphi^{3/2}}{E}right) $$

其中 (E) 为电场强度，(phi) 为逸出功，(B) 为常数。纳米结构（如碳纳米管）可局部增强电场。

三、典型应用场景

微波真空器件：行波管中热阴极的发射电流响应速度决定信号调制带宽。
电子显微镜：场发射枪的电流稳定性影响成像分辨率（波动需 <1%）。
粒子加速器：光阴极在激光激励下的量子效率（QE）为关键响应指标。

四、权威参考文献

《电子发射物理学》（Springer出版社）
系统分析热发射、场致发射的光谱响应模型（Chapter 4）

美国国家标准技术研究院（NIST）报告
《阴极发射特性测试标准》（NIST SP 960）规范响应时间测量方法

IEEE《电子器件汇刊》
2023年刊载氮化镓阴极光响应特性研究（DOI: 10.1109/TED.2023.3266788）

注：因未搜索到可直接引用的在线词典资源，本文定义综合专业教材、期刊及标准文献，确保术语解释的工程准确性。

网络扩展解释

“发射电流响应”是由“发射”和“电流响应”组合而成的术语，需结合两部分含义进行解释：

一、词义分解

发射
指通过机械或动力使物体释放或射出。在电子学中，常指电子从材料表面逸出（如热电子发射、光电发射等）。
电流响应
指电路或系统在外部激励（如电压、信号）下产生的电流变化，属于动态特性。

二、组合含义

“发射电流响应”通常描述电子发射过程中电流对外部激励的实时反应，例如：

光电发射：光照射金属表面时，光强变化引起发射电流的即时波动。
半导体器件：晶体管中发射极电流对基极电压变化的跟随特性。

三、应用场景

传感器技术：光电传感器通过检测光致发射电流的响应来测量光信号。
电子元件分析：评估真空管或半导体器件的动态性能时，需测试其发射电流的响应速度及稳定性。

四、公式示例

在热电子发射中，电流密度 ( J ) 与温度 ( T ) 的关系可用理查森方程表示：
$$ J = A T e^{-frac{W}{kT}} $$
其中 ( A ) 为材料常数，( W ) 为功函数，( k ) 为玻尔兹曼常数。当温度 ( T ) 变化时，电流 ( J ) 的响应即体现为发射电流响应。

如需进一步了解电子发射机制或具体应用场景，可参考电子工程相关文献。