
【化】 electron bombardment ion source
electron
【化】 electron
【医】 e.; electron
bombard
【化】 bombardment
【医】 bombard; bombardment
【化】 ion source
【医】 source ion
电子轰击离子源(Electron Bombardment Ion Source,简称EI离子源)是一种广泛应用于质谱分析中的电离技术。其核心原理是通过高能电子束(通常能量为70 eV)轰击气态样品分子,使分子失去电子形成正离子,或捕获电子形成负离子。该过程遵循量子力学中的电子-分子碰撞理论,电离效率可通过公式$ sigma = n cdot Phi cdot E $计算,其中σ为电离截面,n为分子密度,Φ为电子通量,E为电子能量。
该离子源由三个主要组件构成:
在应用层面,EI离子源因能产生稳定的离子流和特征碎片谱图,被列为美国国家标准技术研究院(NIST)质谱数据库的标准电离方法。其优势包括高重现性(相对标准偏差<2%)和宽适用性(相对分子质量<1000 Da),但可能因高能电子导致分子过度碎裂,故常与软电离技术互补使用。
权威文献显示,EI离子源在环境检测(如EPA Method 8270)和药物代谢研究中的检出限可达ppb级。中国《分析仪器通用技术规范》(GB/T 12519-2022)也将其列为有机化合物定性分析的首选方法。
电子轰击离子源(Electron Impact Ionization, EI)是质谱仪中常用的一种离子化技术,主要用于将气态样品分子转化为离子。以下是其详细解释:
电子轰击离子源通过高能电子束(通常能量为70eV)轰击气态样品分子,使其失去电子形成正离子(如M⁺),同时可能引发化学键断裂或分子重排,产生碎片离子。这一过程需在高真空条件下进行,以减小气体分子间的碰撞干扰。
典型结构包括:
主要用于分析气体、挥发性有机物及金属蒸气,是质谱定性分析(如结构鉴定)的核心技术之一。
如需进一步了解其他离子源(如化学电离源、场致电离源)的对比,可参考相关文献或权威资料。
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