
【计】 modulated inversion region
在电子器件领域,调制反型区(Modulated Inversion Region)指金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)中,通过栅极电压调控形成的载流子反转导电区域。当栅极电压超过阈值电压时,半导体表面会从多数载流子主导状态转变为少数载流子富集状态,形成具有高迁移率的反型层。
该概念的核心特征包括:
汉英术语对照中,"调制"对应"modulation",强调通过电信号对物理特性的主动控制;"反型区"译为"inversion region",特指半导体表面能带弯曲导致载流子类型反转的微观区域。
该现象的定量描述可通过表面势方程表达: $$ psi_s = frac{2kT}{q} lnleft(frac{N_A}{ni}right) + V{GB} $$ 其中$psis$为表面势,$V{GB}$为栅体电压,$N_A$是掺杂浓度,$n_i$为本征载流子浓度。
权威文献中,麻省理工学院微电子实验室《MOS物理模型》指出反型区形成是场效应器件工作的基础机制,而IEEE《电子器件汇刊》多篇研究证实,通过掺杂工程可实现反型区迁移率提升达30%。国际半导体技术路线图(ITRS)将其列为纳米尺度器件优化的关键技术参数。
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根据搜索结果(、、),调制指在通信系统中,通过改变载波信号(如振幅、频率或相位)的某一特征来传输信息的过程。例如:
“反型区”常见于半导体物理领域,例如在MOSFET(金属-氧化物半导体场效应晶体管)中,当栅极电压超过阈值时,半导体表面会形成导电的反型层,此区域称为反型区。
若将两者结合,“调制反型区”可能是特定学科中的专业术语,例如:
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