高頻轟擊器英文解釋翻譯、高頻轟擊器的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【電】 high frequency bombarder

high frequency
【電】 hf; high frequency

bombard
【化】 bombardment
【醫】 bombard; bombardment

implement; organ; utensil; ware
【醫】 apparatus; appliance; crgan; device; organa; organon; organum; vessel

高頻轟擊器（High-Frequency Bombardment Device）是電子工程與材料科學領域的專業設備，主要用于通過高頻電磁場對物質表面進行粒子轟擊。其核心功能包括材料表面改性、薄膜沉積及半導體加工，常見于等離子體刻蝕、離子注入等工藝中。

從漢英詞典角度解析：

術語構成
中文"高頻轟擊器"可拆解為：
- 高頻（High-Frequency）：指設備工作在MHz至GHz頻段，
- 轟擊（Bombardment）：對應粒子加速碰撞過程，常見于《牛津電子工程詞典》的等離子體技術章節
技術原理
通過高頻電源産生交變電場，使氣體電離形成等離子體，帶電粒子在電場加速下轟擊靶材。該過程符合麥克斯韋-玻爾茲曼分布： $$ f(v) = sqrt{frac{m}{2pi kT}} e^{-frac{mv}{2kT}} $$
行業應用
在集成電路制造中用于納米級刻蝕（參考《半導體制造技術手冊》第3.2節，航天材料領域則用于钛合金表面強化處理（見NASA技術報告NTRS-2020-002。
設備變體
- 射頻濺射轟擊器（RF Sputtering Bombarder）
- 微波等離子體轟擊系統（Microwave Plasma Bombardment System）

“高頻轟擊器”是一個專業術語，其含義可拆解為以下三部分分析：

高頻（High Frequency）
指電磁波頻譜中3MHz至30MHz的波段，具有波長較短、穿透力強的特點，常用于通信、雷達、工業加熱等領域。
轟擊（Bombardment）
在物理和工程學中，特指通過高速粒子（如電子、離子）或能量束對材料表面進行沖擊的過程，常用于材料改性、半導體制造或核反應實驗。
器（Device/Apparatus）
指實現特定功能的設備裝置。綜合而言，“高頻轟擊器”可能是利用高頻電磁波或粒子束進行定向沖擊的工業或科研設備，例如在等離子體生成、材料表面處理等場景中應用。

由于當前搜索結果權威性較低，建議通過《電子工程術語手冊》或IEEE标準文獻進一步驗證具體技術參數和應用案例。