等離子體源英文解釋翻譯、等離子體源的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 plasma source

分詞翻譯：

等離子體的英語翻譯：

【化】 plasma

源的英語翻譯：

fountainhead; source
【醫】 source

專業解析

等離子體源（Plasma Source）指産生并維持等離子體穩定狀态的裝置或系統，其核心功能是将中性氣體電離為帶電粒子（電子、離子）與中性粒子共存的物質狀态。根據《牛津物理學術詞典》定義，等離子體屬于物質的第四态，其能量來源通常包括射頻電場、微波或直流放電等外部激發方式。

在工業應用中，等離子體源的工作原理基于氣體電離的物理過程。例如，電感耦合等離子體（ICP）通過高頻線圈産生交變電磁場，使氣體分子碰撞電離；而電子回旋共振（ECR）源則利用微波與磁場的協同作用，實現高密度等離子體生成。這類技術已廣泛應用于半導體蝕刻（參考《IEEE等離子體工程學報》2023年技術白皮書）、材料表面改性（見美國物理聯合會《應用物理綜述》）及核聚變研究（ITER項目公開技術文檔）等領域。

目前主流的等離子體源分類包含：

熱等離子體源：如電弧等離子體炬，適用于高溫材料加工
冷等離子體源：包括介質阻擋放電（DBD），用于生物醫學滅菌
磁約束等離子體源：托卡馬克裝置中的環形磁場約束系統
脈沖等離子體源：航天器推進系統的脈沖感應加速技術

美國國家标準與技術研究院（NIST）2024年發布的等離子體計量标準中強調，等離子體源的性能指标需包含電子密度（$n_e$）、電子溫度（$T_e$）和電離度（$alpha$）三個核心參數，其關系可表示為： $$ alpha = frac{n_i}{n_n + n_i} $$ 其中$n_i$為離子密度，$n_n$為中性粒子密度。

網絡擴展解釋

等離子體源是用于産生并控制等離子體的裝置，其核心功能是通過電離氣體形成帶電粒子與中性粒子的混合态物質（即等離子體），并應用于工業、科研等領域。以下是其關鍵特點及分類：

一、基本定義與原理

等離子體源通過施加電場、磁場或兩者結合的方式，将氣體（如Ar、N₂等）電離，形成包含離子、電子和中性粒子的等離子體。其工作原理涉及電離過程、電磁場約束及能量傳遞。

二、主要類型與特點

螺旋高密度等離子體源
利用螺旋線圈産生軸向磁場，約束帶電粒子運動，形成高密度、高溫等離子體，適用于核聚變研究及材料處理。
線形等離子體源
采用一維線性放電結構，通過調節氣體流量、功率和磁場強度實現均勻分布，適合大面積薄膜沉積或表面處理。
遠程等離子體源
等離子體在獨立區域生成後傳輸至處理表面，避免直接接觸導緻的污染或熱損傷，廣泛應用于半導體制造。
磁控等離子體源
通過電極附近的磁場優化等離子體分布，提升蝕刻均勻性和深度，常見于微電子加工。

三、核心優勢

高可控性：通過調節參數（如功率、磁場）精确控制等離子體密度和能量。
應用廣泛：覆蓋半導體刻蝕、薄膜沉積、表面清洗、核聚變實驗等領域。
減少損傷：遠程設計可保護敏感材料，提升工藝穩定性。

四、物理特性支撐

等離子體作為物質的第四态，具有電中性、高導電性和電磁敏感性，其行為受電磁場主導，適合工業級能量傳遞與反應。

如需更詳細的技術參數或具體應用案例，可參考專利文件（如）或行業報告（如）。