電子束記錄英文解釋翻譯、電子束記錄的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【計】 electron beam recording

分詞翻譯：

電子束的英語翻譯：

【計】 E beam
【化】 electron beam
【醫】 electron beam

記錄的英語翻譯：

record; mark; register; account; memorize; report; take notes
【計】 design development record; posting; REC; record
【醫】 protocol; reading; register; registration
【經】 entry; keeping of record; mark; record; record keeping; records

專業解析

電子束記錄 (Electron Beam Recording) 的漢英詞典角度解釋如下：

1.核心定義與翻譯

中文術語：電子束記錄
英文對應： Electron Beam Recording (EBR)
基本釋義：指利用高度聚焦的電子束在特定介質（如光刻膠、金屬薄膜或其他敏感材料）表面進行信息寫入或圖案化加工的技術過程。

2.技術原理詳解

工作方式：該技術通過電子光學系統将電子槍發射的電子束聚焦成極細的斑點（可達納米級精度）。此高能電子束在計算機控制下，按照預設的圖案或數據路徑掃描轟擊介質表面。
作用機制：電子束的能量作用于介質，可引起多種物理或化學變化，例如：
- 在光刻膠中誘發交聯或降解反應，形成顯影後所需的微細圖形（光刻應用）。
- 在金屬薄膜上直接蒸發或濺射材料，實現微米或納米結構的直接寫入（微加工應用）。
- 改變材料的晶體結構或磁疇狀态（特定存儲應用）。

3.核心特點與優勢

超高分辨率：得益于電子極短的德布羅意波長，電子束記錄能實現遠超傳統光學方法的分辨率極限，是制造納米尺度結構的關鍵技術。
直接寫入能力：無需預制掩模版（Maskless），可直接根據數字數據在基片上生成複雜圖形，具有極高的靈活性，尤其適合原型開發和小批量生産。
精确可控：電子束的強度、聚焦位置和掃描路徑可通過電磁場精确控制，實現亞微米乃至納米級的定位精度。

4.主要應用領域

半導體制造：用于制造集成電路（IC）的光掩模版（Photomask）以及先進節點的直接光刻（尤其在研發和低産量芯片中）。
納米技術與微加工：制造納米電子器件、光子晶體、微機電系統（MEMS）部件、納米壓印模闆等。
高密度數據存儲（曆史/特定領域）：探索用于制作母盤或直接寫入的超高密度存儲介質（盡管商業主流存儲技術已轉向其他方案）。
材料科學分析：結合掃描電子顯微鏡（SEM）等技術，用于微區分析、微結構修改等。

參考來源：

《英漢電子工程與計算機科學詞典》 (English-Chinese Dictionary of Electronics Engineering and Computer Science) - 該專業詞典對“Electron Beam Recording”及其在微電子領域的應用有權威定義和解釋。
《現代科學技術詞典》 (Modern Scientific and Technical Dictionary) - 提供“電子束記錄”在廣義科技範疇内的技術原理和應用概述。

網絡擴展解釋

“電子束記錄”是一種利用電子束技術進行信息存儲或成像的方法。以下是詳細解釋：

1. 基本定義電子束記錄法指通過計算機控制電子束偏轉，将文字、圖形等信息直接記錄在感光介質（如幹銀膠片）上的技術。其核心是通過高能電子束的精确聚焦和掃描實現高分辨率記錄。

2. 技術原理

電子束生成：由電子槍産生高速電子流，通過25-300kV高壓電場加速至0.3-0.7倍光速。
聚焦控制：利用電磁透鏡将電子束會聚成微米級精細束流。
偏轉記錄：計算機輸出信號控制電子束在感光膠片上的掃描路徑，通過電子與膠片的相互作用形成潛像。

3. 主要應用

成像領域：電子顯微鏡成像、早期電視顯像管。
數據存儲：用于特殊場景的高密度信息記錄，如早期計算機輸出設備的幹銀膠片記錄。
工業加工：輔助半導體制造中的微細圖形刻畫（參考中薄膜制備原理延伸）。

4. 技術優勢高能量密度和可控性使其在微米級精度記錄中具有優勢，尤其適用于需要長期保存的模拟信號記錄場景。

注：更完整的技術參數和現代應用案例建議參考專業文獻，部分基礎原理可查看、3、9的原始來源。