电子束记录英文解释翻译、电子束记录的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 electron beam recording

分词翻译：

电子束的英语翻译：

【计】 E beam
【化】 electron beam
【医】 electron beam

记录的英语翻译：

record; mark; register; account; memorize; report; take notes
【计】 design development record; posting; REC; record
【医】 protocol; reading; register; registration
【经】 entry; keeping of record; mark; record; record keeping; records

专业解析

电子束记录 (Electron Beam Recording) 的汉英词典角度解释如下：

1.核心定义与翻译

中文术语：电子束记录
英文对应： Electron Beam Recording (EBR)
基本释义：指利用高度聚焦的电子束在特定介质（如光刻胶、金属薄膜或其他敏感材料）表面进行信息写入或图案化加工的技术过程。

2.技术原理详解

工作方式：该技术通过电子光学系统将电子枪发射的电子束聚焦成极细的斑点（可达纳米级精度）。此高能电子束在计算机控制下，按照预设的图案或数据路径扫描轰击介质表面。
作用机制：电子束的能量作用于介质，可引起多种物理或化学变化，例如：
- 在光刻胶中诱发交联或降解反应，形成显影后所需的微细图形（光刻应用）。
- 在金属薄膜上直接蒸发或溅射材料，实现微米或纳米结构的直接写入（微加工应用）。
- 改变材料的晶体结构或磁畴状态（特定存储应用）。

3.核心特点与优势

超高分辨率：得益于电子极短的德布罗意波长，电子束记录能实现远超传统光学方法的分辨率极限，是制造纳米尺度结构的关键技术。
直接写入能力：无需预制掩模版（Maskless），可直接根据数字数据在基片上生成复杂图形，具有极高的灵活性，尤其适合原型开发和小批量生产。
精确可控：电子束的强度、聚焦位置和扫描路径可通过电磁场精确控制，实现亚微米乃至纳米级的定位精度。

4.主要应用领域

半导体制造：用于制造集成电路（IC）的光掩模版（Photomask）以及先进节点的直接光刻（尤其在研发和低产量芯片中）。
纳米技术与微加工：制造纳米电子器件、光子晶体、微机电系统（MEMS）部件、纳米压印模板等。
高密度数据存储（历史/特定领域）：探索用于制作母盘或直接写入的超高密度存储介质（尽管商业主流存储技术已转向其他方案）。
材料科学分析：结合扫描电子显微镜（SEM）等技术，用于微区分析、微结构修改等。

参考来源：

《英汉电子工程与计算机科学词典》 (English-Chinese Dictionary of Electronics Engineering and Computer Science) - 该专业词典对“Electron Beam Recording”及其在微电子领域的应用有权威定义和解释。
《现代科学技术词典》 (Modern Scientific and Technical Dictionary) - 提供“电子束记录”在广义科技范畴内的技术原理和应用概述。

网络扩展解释

“电子束记录”是一种利用电子束技术进行信息存储或成像的方法。以下是详细解释：

1. 基本定义电子束记录法指通过计算机控制电子束偏转，将文字、图形等信息直接记录在感光介质（如干银胶片）上的技术。其核心是通过高能电子束的精确聚焦和扫描实现高分辨率记录。

2. 技术原理

电子束生成：由电子枪产生高速电子流，通过25-300kV高压电场加速至0.3-0.7倍光速。
聚焦控制：利用电磁透镜将电子束会聚成微米级精细束流。
偏转记录：计算机输出信号控制电子束在感光胶片上的扫描路径，通过电子与胶片的相互作用形成潜像。

3. 主要应用

成像领域：电子显微镜成像、早期电视显像管。
数据存储：用于特殊场景的高密度信息记录，如早期计算机输出设备的干银胶片记录。
工业加工：辅助半导体制造中的微细图形刻画（参考中薄膜制备原理延伸）。

4. 技术优势高能量密度和可控性使其在微米级精度记录中具有优势，尤其适用于需要长期保存的模拟信号记录场景。

注：更完整的技术参数和现代应用案例建议参考专业文献，部分基础原理可查看、3、9的原始来源。