
【計】 memory capacitor
在電子工程領域,“存儲電容”(Storage Capacitance)指電容器或具有電容特性的結構(如MOSFET栅極)儲存電荷的能力,是衡量其電荷存儲效能的關鍵參數。以下是詳細解釋:
物理本質
存儲電容 ( C ) 定義為電荷量 ( Q ) 與電壓 ( V ) 的比值:
$$ C = frac{Q}{V} $$
單位為法拉(F)。電容值越大,在相同電壓下可存儲的電荷越多。
在半導體器件中的體現
例如MOSFET的栅極電容(Gate Capacitance)由栅氧層電容(( C{ox} ))構成,其值直接影響晶體管的開關速度與功耗。公式為:
$$ C{ox} = frac{varepsilon{ox}}{t{ox}} $$
其中 ( varepsilon{ox} ) 為氧化層介電常數,( t{ox} ) 為氧化層厚度。
動态隨機存儲器(DRAM)
存儲電容是DRAM單元的核心組件,通過電容的電荷狀态(充滿/放空)表示二進制數據“1”或“0”。電容值需足夠大以确保數據在刷新周期内保持穩定。
采樣保持電路(Sample-and-Hold)
利用電容臨時存儲模拟信號電壓,為ADC轉換提供穩定輸入。電容值的選擇需平衡采樣精度與響應速度。
電源去耦(Decoupling)
芯片電源引腳旁的儲能電容可抑制電壓波動,為瞬态電流提供局部電荷源,提升系統穩定性。
《電子科學技術名詞》(第三版)
定義“存儲電容”為“在動态存儲器等器件中,用于暫存信息的電容元件”。
(來源:科學出版社,ISBN 978-7-03-065487-2)
IEEE标準術語(IEEE Std 100)
将“capacitance”描述為“導體系統在給定電壓下儲存電荷的特性”。
(來源:IEEE Xplore, DOI: 10.1109/IEEESTD.2000.322230)
半導體器件經典教材
《Microelectronic Circuits》(Sedra/Smith)詳細分析MOS電容的存儲機制與電路模型。
(來源:Oxford University Press, Chapter 3)
中文術語 | 英文術語 |
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存儲電容 | Storage Capacitance |
電荷存儲能力 | Charge Storage Capability |
栅極電容 | Gate Capacitance |
刷新周期 | Refresh Cycle |
介電常數 | Dielectric Constant |
“存儲電容”通常指電容器(capacitor)儲存電荷的能力,或直接代指電容器本身。以下是綜合解釋:
電容(Capacitance)是衡量電容器儲存電荷能力的物理量,定義為電荷量(Q)與電壓(V)的比值,公式為: $$ C = frac{Q}{V} $$ 單位為法拉(F)。
電容器在電路中主要發揮以下作用:
“存儲電容”一詞在工程中可能指代電容器本身(如“安裝存儲電容”),但本質上描述的是其電荷儲存功能。實際應用中需注意電容的耐壓值、容量誤差等參數選擇。
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