
【化】 Tantnickel
silicon
【醫】 Si; silicium; silicon
nickel
【化】 niccolous; nickelous
【醫】 Ni; niccolum; nickel; wire
【經】 nickel
矽鎳(Nickel Silicide)是鎳(Ni)與矽(Si)通過高溫反應形成的金屬間化合物,其化學式為NiSi或Ni₂Si,具體組成取決于反應條件。該材料在半導體工業和微電子領域具有重要應用,尤其在晶體管接觸層和集成電路互連技術中作為低電阻材料使用,其電阻率可低至20 μΩ·cm。
根據國際半導體技術路線圖(ITRS),矽鎳的穩定性使其在450-750°C溫度範圍内保持化學惰性,這一特性被英特爾和台積電等企業用于65納米以下制程工藝。美國國家标準與技術研究院(NIST)的X射線衍射數據證實,NiSi晶體屬于正交晶系,晶格參數為a=5.62 Å,b=3.34 Å,c=6.87 Å。
在材料手冊《ASM Handbook Volume 3》中記載,矽鎳的形成遵循固态擴散機制,其生成焓ΔH_f約為-42 kJ/mol,該數值通過差示掃描量熱法(DSC)測定。日本材料科學研究所(NIMS)的研究表明,通過原子層沉積(ALD)技術可制備厚度小于5納米的矽鎳薄膜,相關成果發表于《Applied Physics Letters》期刊。
來源參考:
“矽鎳”是由矽(Silicon)和鎳(Nickel)組成的合金或化合物,常見于材料科學和工業領域。以下是詳細解釋:
基本定義
可能的翻譯問題
搜索結果提到“矽鎳”的英文翻譯為“Tantnickel”,但該詞可能存在拼寫或術語錯誤。更準确的表述應為“silicon-nickel alloy”或具體化合物名稱(如“nickel silicide”)。
應用領域
矽鎳合金可能具備以下特性:
建議:若需具體成分或用途信息,建議查閱材料科學手冊或專業文獻,以獲取更權威的術語解釋和應用案例。
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