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金屬氧化物半導體元件英文解釋翻譯、金屬氧化物半導體元件的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯:

【電】 metal oxide semiconductor device

分詞翻譯:

金屬氧化物的英語翻譯:

【計】 dysphasia

半導體元件的英語翻譯:

【計】 semiconductor component

專業解析

金屬氧化物半導體元件(Metal-Oxide-Semiconductor Device,簡稱MOS元件)是半導體器件中的核心類型,其結構由金屬層、氧化物絕緣層和半導體基底三部分構成。該元件基于電場效應調控半導體表面導電性,主要應用于集成電路、功率轉換和傳感器等領域。以下為詳細解釋:

  1. 結構組成

    MOS元件采用分層結構:頂層為金屬或多晶矽制成的栅極(Gate),中間是二氧化矽(SiO₂)或其他高介電材料形成的絕緣層(Oxide),底層為矽基半導體(如P型或N型矽)。這種結構通過栅極電壓控制導電溝道的形成。

  2. 工作原理

    當栅極施加電壓時,電場穿透氧化物層,在半導體表面形成反型層(導電溝道),實現源極(Source)與漏極(Drain)間的電流控制。阈值電壓(Threshold Voltage)是觸發導電的關鍵參數,其數值由氧化物厚度和半導體摻雜濃度決定。

  3. 技術分類

    • MOSFET(金屬氧化物半導體場效應晶體管):分增強型與耗盡型,用于數字電路開關和模拟信號放大。
    • CMOS(互補式金屬氧化物半導體):結合N型與P型MOSFET,以低功耗特性成為現代芯片的基礎架構。
  4. 應用領域

    • 集成電路:CPU、存儲器等芯片的晶體管單元。
    • 功率器件:高壓MOSFET用于電源管理。
    • 傳感器:如MEMS氣體傳感器依賴MOS界面電荷變化檢測目标物質。

權威參考資料

網絡擴展解釋

金屬氧化物半導體元件(Metal-Oxide-Semiconductor,簡稱MOS元件)是一類基于金屬-氧化物-半導體結構的電子器件,其核心是MOS場效應晶體管(MOSFET)。以下是詳細解釋:


一、基本結構

MOS元件由三層構成:

  1. 金屬層:通常作為栅極(Gate),用于施加控制電壓;
  2. 氧化物層:一般為二氧化矽(SiO₂),作為絕緣層,隔離金屬與半導體;
  3. 半導體層:通常是矽襯底,分為源極(Source)和漏極(Drain)。

二、工作原理

通過栅極電壓控制半導體表面的導電狀态:


三、主要類型

  1. PMOS與NMOS:分别基于P型或N型半導體,通過空穴或電子導電;
  2. CMOS:互補型MOS,結合PMOS和NMOS,顯著降低功耗。

四、核心特點


五、應用領域


總結來看,MOS元件通過電場效應控制電流,是現代集成電路的基礎。其結構簡單、功耗低的特性推動了電子設備的微型化和高效化發展。

分類

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