微觀場曲率英文解釋翻譯、微觀場曲率的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【醫】 curvature of the microscopic

分詞翻譯：

微的英語翻譯：

decline; profound; tiny
【計】 mic-; micro-
【醫】 micr-; micro-; mikro-; mu

觀的英語翻譯：

look at; sight; view; watch
【醫】 view

場曲的英語翻譯：

【化】 curvature of field

率的英語翻譯：

frank; hasty; lead; modulus; quotiety; rash; rate; ratio; usually
【醫】 rate
【經】 rater.

專業解析

微觀場曲率（Microscopic Field Curvature）是光學成像系統中的一種像差，指成像平面并非理想平面，而是呈現彎曲的曲面狀态。該現象在顯微鏡等微觀觀測系統中尤為顯著，會導緻圖像邊緣與中心區域的焦點不一緻，影響成像清晰度。其英文術語通常表述為Field Curvature 或Curvature of Field。

核心概念解析：

光學定義
微觀場曲率源于光學系統對不同視場角的光線聚焦能力差異。當平行光線通過透鏡時，離軸光線（邊緣光線）與近軸光線（中心光線）無法彙聚于同一平面，形成彎曲的焦平面（Petzval曲面）。公式可表示為：

$$ frac{1}{R_p} = sum frac{1}{n_i f_i} $$

其中 ( R_p ) 為Petzval曲率半徑，( n_i ) 和 ( f_i ) 分别為透鏡組元的折射率與焦距。
對成像的影響
- 邊緣模糊：圖像邊緣區域因離焦而模糊，需通過調整樣品高度補償曲率。
- 分辨率損失：在高分辨率顯微鏡（如共聚焦顯微鏡）中，場曲率會降低三維成像的軸向分辨率。
校正方法
- 光學設計：使用彎月透鏡或非球面鏡平衡Petzval和。
- 數字校正：結合軟件算法（如Z-stack圖像融合）後期修正曲率影響。

權威來源參考：

光學工程手冊（Handbook of Optical Systems）詳細論述場曲率的成因與校正設計（來源：Springer Link）
顯微鏡光學系統标準（ISO 19056-1:2015）規定場曲率的測試方法（來源：ISO官網）
美國光學學會術語庫（OSA Glossary）對"Field Curvature"的定義（來源：Optica Publishing Group）

漢英術語對照：

中文術語	英文術語
微觀場曲率	Microscopic Field Curvature
佩茨瓦爾曲面	Petzval Surface
像面彎曲	Image Surface Curvature
離軸像差	Off-Axis Aberration

注：部分專業文獻将場曲率歸類為像散的特殊表現形式，需結合具體光學系統分析。

網絡擴展解釋

“微觀場曲率”是一個結合了“曲率”“場曲率”和“微觀”概念的複合術語。以下是綜合搜索結果的解釋：

1.基礎概念分解

曲率：數學上描述曲線或曲面在某一點的彎曲程度，計算公式為 $k = left|frac{dtheta}{ds}right|$（其中 $theta$ 是切線角，$s$ 是弧長）。曲率越大，彎曲越明顯。
場曲率：特指光學或物理場中的彎曲現象。例如，在光學中，場曲率表示像場彎曲成球面的曲率半徑，與透鏡參數相關。
微觀：指小尺度或局部範圍内的特性，如微分幾何中“微觀曲率”定義為 $R = frac{da}{dl}$，描述線元的局部彎曲率。

2.微觀場曲率的含義

結合上述概念，微觀場曲率可理解為：

局部場彎曲：在微觀尺度（如某一點附近）下，物理場（如電磁場、引力場）或幾何結構的彎曲程度。
應用場景：
- 光學領域：可能指透鏡表面微觀結構導緻的局部像場彎曲。
- 廣義相對論：時空曲率在微觀尺度下的表現，如量子引力理論中時空的局部彎曲。
- 材料科學：微觀曲面對場分布的影響，例如納米材料表面的電場或應力場彎曲。

3.公式補充

若需數學表達，微觀場曲率可參考曲率的微分定義： $$ k = lim_{Delta l to 0} frac{Delta alpha}{Delta l} = frac{dalpha}{dl} $$ 其中 $Delta alpha$ 是切線角變化量，$Delta l$ 是線元長度。

4.總結

該術語強調微觀尺度下場（物理場或幾何場）的局部彎曲特性，需結合具體領域（如光學、相對論）進一步分析。由于搜索結果未直接定義“微觀場曲率”，以上解釋基于相關概念的整合推斷。