
【电】 emission current
launch; discharge; shoot; project; eradiate; let fly; transmit
【医】 emission
electric current; electrical current; electricity
【计】 I
【化】 current; electric current; electric current (strength)
【医】 current; electric current; rheo-
在电子工程与物理学领域,"发射电流"(英文:Emission Current)特指电子从材料表面逸出形成的电流。这一现象是真空电子器件(如电子管、阴极射线管)和现代场发射器件工作的物理基础。以下是其核心含义的详细解释:
发射电流指在外加电场或热能激发下,材料(通常是金属或半导体)内部的自由电子克服表面势垒(功函数)束缚,从阴极表面发射到真空中形成的定向电流流。其强度直接决定了电子器件的阴极发射能力。
根据理查德森-杜什曼方程(Richardson-Dushman equation),热电子发射电流密度 (J) 与材料温度 (T) 和功函数 (phi) 的关系为: $$ J = A T e^{-frac{phi}{kT}} $$ 其中:
材料功函数
功函数越低(如铯涂层 (phi approx 1.8text{eV})),电子越易逸出,发射电流越大。常见阴极材料包括钨((phi = 4.5text{eV}))、钍钨合金((phi = 2.6text{eV}))等。
温度效应
热阴极需加热至 1000–2500 K 以产生显著电流,例如真空管中直接通电加热灯丝实现电子发射。
电场增强
肖特基效应表明,强电场可降低表面势垒,提升发射效率。场发射阴极(如碳纳米管)即利用此原理在室温下工作。
权威参考来源
“发射电流”是电子学中与半导体器件相关的重要概念,具体解释如下:
在双极型晶体管中,发射电流指载流子(电子或空穴)从发射区向基区注入形成的电流。这种电流是晶体管实现放大功能的基础。其本质属于电荷的定向流动,伴随热效应、磁场效应等物理现象。
主要用于模拟电路中的信号放大,例如:
晶体管电流关系可表示为: $$ I_E = I_B + I_C $$ 其中,$I_E$为发射电流,$I_B$为基极电流,$I_C$为集电极电流。
注:更多技术细节可参考半导体器件相关文献(如来源的知网文献)。
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