
【化】 background vapor pressure
background
【化】 background
【化】 vapor pressure
本底蒸气压(Background Vapor Pressure)是物理化学与真空技术领域的重要概念,指在封闭系统或真空环境中,物质在无外部干扰条件下达到气液平衡时自身产生的蒸气压力。该参数常用于表征材料在特定温度下的挥发性,例如在半导体制造或高真空设备中,本底蒸气压的数值直接影响系统内残余气体成分的稳定性。
根据《英汉汉英化学化工词汇》(科学出版社),该术语对应英文"background vapor pressure",其数值可通过Antoine方程计算: $$ log_{10} P = A - frac{B}{T + C} $$ 其中$P$为蒸气压(单位:Pa),$T$为热力学温度(单位:K),$A$$B$$C$为物质特性常数。
国际纯粹与应用化学联合会(IUPAC)指出,本底蒸气压的测量需在严格控温的密闭体系中进行,且需扣除环境气体干扰。例如汞在20℃时本底蒸气压为0.16 Pa,这一数据被用作真空度分级的标准参考值。美国国家标准与技术研究院(NIST)的化学数据库收录了超过2000种物质的本底蒸气压温度曲线,为工程设计与科学研究提供基准数据。
“本底蒸气压”是一个相对专业的术语,通常指在特定环境或系统中,物质在不受外界干扰时的基础蒸气压。以下是综合多个来源的解释:
本底蒸气压可理解为物质在纯净状态或特定系统背景条件下的蒸气压。例如,在真空系统中,它可能指系统内残余物质(如未完全抽离的气体或液体)产生的蒸气压。
与普通蒸气压类似,本底蒸气压也受温度和物质种类影响,但还需考虑系统洁净度和环境杂质。
“本底蒸气压”多用于强调系统背景条件下的蒸气压,需结合具体领域(如物理、化学或工程)进一步理解。若需更专业的定义,建议查阅相关领域的文献或标准。
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