绝缘基质单石电路英文解释翻译、绝缘基质单石电路的近义词、反义词、例句
英语翻译:
【电】 insulated substrate monolithic circuit
分词翻译:
绝缘的英语翻译:
be isolated from; insulation
【医】 insulate; insulation; isolate; isolation
基质的英语翻译:
【医】 base; base material; ground substance; ground-substance
interstitial substance; matrix; stroma; substantia basilaris; zymolite
zymolyte
单石电路的英语翻译:
【电】 monolithic circuit
专业解析
"绝缘基质单石电路"是一个电子工程领域的专业术语,结合汉英词典角度,其详细含义可拆解和解释如下:
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术语拆解与汉英对照
- 绝缘 (Juéyuán / Insulation): 指材料阻止电流流动的特性。在电路中,绝缘材料用于隔离导电部分,防止短路或漏电。英文对应 "Insulation" 或 "Insulating"。
- 基质 (Jīzhì / Substrate): 指承载或支撑电路元件的基础材料层。在集成电路中,这是芯片的物理基底。英文对应 "Substrate"。
- 单石 (Dānshí / Monolithic): 源于英文 "Monolithic",意为 "单块的"、"整体的"。在微电子学中,指所有电路元件(晶体管、电阻、电容、连线)都集成制造在同一块半导体晶片(通常是硅)内部或表面上,形成一个不可分割的整体电路。中文常音译为 "单石"。
- 电路 (Diànlù / Circuit): 指由电气元件互联构成的、具有特定功能的路径。英文对应 "Circuit"。
- 组合 (Combination): "绝缘基质单石电路" (Juéyuán Jīzhì Dānshí Diànlù / Insulating Substrate Monolithic Circuit)。
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整体含义解释
"绝缘基质单石电路" 指的是一种制造在具有优异绝缘性能的基底材料上的单片集成电路。其核心特点包括:
- 单片集成 (Monolithic Integration): 所有有源(如晶体管)和无源(如电阻、电容)元件以及互连线,都通过半导体工艺(如光刻、掺杂、薄膜沉积、蚀刻)制作在同一块半导体晶片(通常是硅片)上或其内部,形成一个不可分割的单一芯片。
- 绝缘基底 (Insulating Substrate): 与传统的体硅 (Bulk Silicon) 基底不同,这种电路使用的基底材料本身具有很高的绝缘性。这带来了显著优势:
- 减少寄生电容 (Reduced Parasitic Capacitance): 元件与导电基底之间的电容大大降低,提高了电路速度(尤其在高频下)并降低了功耗。
- 消除闩锁效应 (Latch-up Immunity): 在 CMOS 电路中,绝缘基底可以完全消除由寄生双极晶体管引起的闩锁效应,提高了电路的可靠性和鲁棒性。
- 更好的隔离 (Improved Isolation): 相邻元件之间的电隔离性更好,减少了串扰,允许更高的集成密度。
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技术背景与常见实现
最常见的实现 "绝缘基质单石电路" 的技术是绝缘体上硅 (Silicon-on-Insulator, SOI) 技术:
- 结构: SOI 晶圆由三层组成:最上层是用于制造器件的薄硅层 (Device Layer),中间是绝缘层(通常是二氧化硅,称为 Buried Oxide 或 BOX),底层是支撑用的硅衬底 (Handle Wafer)。
- 工作原理: 有源器件(晶体管)制作在顶部的硅层中。中间的绝缘层(BOX)将顶部的器件硅层与底部的硅衬底隔离开来,实现了 "绝缘基质" 的特性。
- 优势: SOI 技术完美体现了 "绝缘基质单石电路" 的优势:高速、低功耗、抗辐射、抗闩锁、良好的隔离性。它广泛应用于高性能处理器、射频电路、汽车电子、航空航天等领域。
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与相关术语的区别
- 单片集成电路 (Monolithic Integrated Circuit): 这是更通用的术语,泛指所有集成在同一芯片上的电路,其基底可以是传统的体硅或绝缘基底的 SOI。
- 绝缘体上硅 (SOI): 这是实现 "绝缘基质单石电路" 最主流、最具体的工艺技术。
- 混合集成电路 (Hybrid Integrated Circuit): 将多个独立的半导体芯片(单片集成电路)和无源元件组装在同一块绝缘基板(如陶瓷)上并互连而成。这与 "单石"(单片集成)的概念不同。
总结:
"绝缘基质单石电路" 特指采用具有高绝缘性能的材料作为基底的单片集成电路。其核心在于利用绝缘基底(如 SOI 技术中的埋氧层)来显著提升电路性能(速度、功耗、抗干扰、可靠性)。最常见的实现方式是绝缘体上硅 (SOI) 技术。该术语强调了基底材料的绝缘特性对单片集成电路性能的关键影响。
参考来源 (基于电子工程通用知识):
- 单片集成电路 (Monolithic Integrated Circuit): 这是微电子学的基础概念。其定义和特点可在任何标准的半导体器件或集成电路教材中找到,例如 S. M. Sze 的 "Semiconductor Devices: Physics and Technology" 或 R. C. Jaeger 的 "Introduction to Microelectronic Fabrication"。 (概念通用,无单一链接)
- 绝缘体上硅 (SOI) 技术: SOI 是实现绝缘基质单石电路的关键技术。其原理、结构和优势是半导体制造领域的标准知识。权威信息可参考:
- 国际半导体技术路线图 (ITRS) 或其后继者 IRDS (International Roadmap for Devices and Systems) 中关于 SOI 的讨论部分(需查阅其公开报告)。
- 主要半导体代工厂(如台积电 TSMC、格罗方德 GlobalFoundries、三星 Samsung)的技术文档或白皮书(通常在官网技术库部分,需具体查找)。
- 行业综述文章或书籍章节,例如 "SOI Technology: Materials to VLSI" (Jean-Pierre Colinge) 等专著。 (技术通用,厂商文档需具体查询)
- 寄生电容与闩锁效应: 这些是 CMOS 电路设计中的基本概念和挑战。其原理和 SOI 的解决方案在标准的 CMOS 集成电路设计教材中均有详细阐述,例如 J. M. Rabaey 的 "Digital Integrated Circuits: A Design Perspective"。 (概念通用,无单一链接)
(注:由于该术语是特定技术描述而非广泛使用的独立词条,在标准汉英词典中可能无直接对应。其解释需基于电子工程专业知识。以上参考来源指向了理解该术语所需的核心概念和技术领域。)
网络扩展解释
“绝缘基质单石电路”是一个电子工程领域的专业术语,其核心含义可从以下角度解析:
1. 术语分解
- 绝缘基质(Insulated Substrate):指采用绝缘材料作为电路基底,例如陶瓷、玻璃或高分子聚合物。这类材料能有效阻隔电流传导,避免漏电或信号干扰。
- 单石电路(Monolithic Circuit):又称单片集成电路,指将晶体管、电阻、电容等元件集成在同一块基板上,实现高密度微型化结构。
2. 整体含义
指以绝缘材料为基底的单片式集成电路,兼具两种特性:
- 绝缘性:基底材料阻断电流横向扩散,提升高频/高压场景下的稳定性;
- 集成性:所有元件一体化制造,减少寄生效应,适用于微型化设备。
3. 典型应用
常见于高频微波电路(如雷达模块)、高功率器件(如电源管理芯片)等场景,因绝缘基底可降低损耗并提高耐压能力。具体材料可能包括氧化铝陶瓷(Al₂O₃)或氮化铝(AlN)等。
注:由于该术语专业性较强,实际应用中需结合具体上下文进一步确认技术参数。如需扩展理解,可参考电子封装材料或集成电路制造相关文献。
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