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平能带电容英文解释翻译、平能带电容的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【电】 flat band capacitance

分词翻译:

平的英语翻译:

calm; draw; equal; even; flat; peaceful; plane; smooth; suppress; tie
【医】 plano-

能的英语翻译:

ability; able; be able to; can; capable; energy; skill
【化】 energy
【医】 energy

带电的英语翻译:

electrification
【医】 electrify

容的英语翻译:

allow; appearance; contain; hold; looks; tolerate

专业解析

在电子工程领域,"平能带电容"(Flat-Band Capacitance)是半导体器件物理中的核心概念,特指金属-氧化物-半导体(MOS)结构在平带条件(Flat-Band Condition) 下测得的单位面积电容值。此时半导体表面能带呈水平状态(无弯曲),空间电荷区消失,电容值达到理论最大值。其物理意义和计算方式如下:


一、物理定义与机理

  1. 平带条件

    当外加栅极电压((V_G))使半导体表面能带完全平坦时,表面势 (psis = 0),半导体内部载流子浓度均匀分布,空间电荷区宽度为零。此时MOS电容仅由氧化层电容 (C{ox}) 主导,无耗尽层或反型层电容的叠加效应。

  2. 电容表达式

    平带电容 (C{FB}) 的理论计算公式为:

    $$ C{FB} = frac{C_{ox} cdot Cs}{C{ox} + C_s} $$

    其中:

    • (C{ox} = frac{varepsilon{ox}}{t{ox}}) 为氧化层单位面积电容((varepsilon{ox}):氧化物介电常数,(t_{ox}):氧化层厚度);
    • (C_s = frac{varepsilon_s}{lambda_D}) 为半导体德拜电容((varepsilon_s):半导体介电常数,(lambda_D):德拜长度)。

二、测量与典型应用

  1. 高频C-V测试

    通过高频(通常 >1 MHz)电容-电压(C-V)特性曲线可观测平带点。平带电容对应曲线中电容值开始显著下降的拐点(见图示),是提取氧化层厚度、界面态密度等参数的关键依据 。

  2. 器件参数标定

    • 氧化层质量评估:(C{FB}) 与 (C{ox}) 的偏差可反映界面陷阱电荷((Q_{it}))或固定氧化物电荷((Q_f))的影响;
    • 阈值电压校准:平带电压 (V{FB}) 是计算MOSFET阈值电压 (V{th}) 的基础参数。

三、中英文术语对照

中文术语 英文术语 定义
平带电容 Flat-Band Capacitance ((C_{FB})) 平带条件下MOS结构的单位面积电容值
平带电压 Flat-Band Voltage ((V_{FB})) 使半导体表面能带恢复平坦所需的外加栅压
氧化层电容 Oxide Capacitance ((C_{ox})) 由栅氧化层介质形成的电容
德拜长度 Debye Length ((lambda_D)) 半导体中载流子屏蔽电场作用的特征长度

四、权威参考文献

  1. 半导体器件物理基础

    Neamen, D. A. Semiconductor Physics and Devices(第四版), McGraw-Hill, 2012.

    详解MOS结构能带理论与C-V特性分析(第10章)。

  2. 标准测试方法

    Schroder, D. K. Semiconductor Material and Device Characterization(第三版), Wiley, 2006.

    高频C-V测量技术及平带点提取流程(第6章)。

  3. 工程应用指南

    Pierret, R. F. Semiconductor Device Fundamentals, Addison-Wesley, 1996.

    平带电容在MOSFET建模中的实际意义(第16章)。


注:实际测量中需注意温度、频率及界面态对 (C_{FB}) 的影响,建议结合TCAD仿真(如Sentaurus)对比实验数据以提升分析精度。

网络扩展解释

“平能带电容”并不是一个标准或常见的专业术语。结合现有资料分析,可能存在以下两种情况:

  1. 术语混淆的可能性
    • 若您指的是「平行板电容」,这是最常见的电容器结构形式,由两块平行金属板组成。根据,其电容公式为: $$ C = frac{varepsilon_0 varepsilon_r A}{d} $$ 其中$varepsilon_0$为真空介电常数,$varepsilon_r$为介质相对介电常数,$A$为极板面积,$d$为极板间距。
    • 若涉及“能带”概念(半导体物理中的电子能量分布),则需结合具体上下文,目前搜索结果中无相关内容。

  2. 电容基础概念补充
    电容的本质是描述导体储存电荷能力的物理量,如和4所述,定义为$C=Q/U$(电荷量与电压的比值),国际单位为法拉(F)。

建议:

  1. 请确认术语准确性,如为学术文献中的专有名词,需提供上下文以便进一步解析;
  2. 若需了解电容基础原理或电容器类型,可参考上述标准解释。

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