
【計】 film integrated circuit
薄膜集成電路(Thin-Film Integrated Circuit)是一種通過真空沉積、濺射或化學氣相沉積等工藝,在絕緣基闆(如陶瓷或玻璃)表面逐層沉積納米至微米級厚度的導電、絕緣或半導體材料,形成微型化電子元件的電路系統。其核心特征包括:
結構特性
薄膜元件厚度通常為0.1-1微米,通過光刻技術實現微米級圖形精度。主要材料包括氮化鋁(AlN)、氧化鋁(Al₂O₃)等介質層,以及金、銅等導體材料。相較于厚膜技術,薄膜電路具備更優的高頻性能和熱穩定性(來源:《微電子制造工藝手冊》,Springer出版)。
功能實現
通過多層薄膜堆疊實現電阻、電容、電感等無源元件集成,常與半導體芯片構成混合集成電路。典型應用包括高頻微波器件(如5G通信濾波器)、高精度傳感器和航天電子系統(來源:IEEE電子器件期刊)。
技術優勢
醫療設備(如心髒起搏器)、衛星通信載荷、汽車雷達模塊及精密儀器儀表,尤適用于極端溫度、輻射環境下的穩定運作需求(來源:NASA技術報告庫)。
薄膜集成電路(Thin Film Integrated Circuit, TFIC)是一種通過特殊工藝将導電薄膜材料與其他基礎元件集成在基闆上的半導體器件。以下從多個維度詳細解釋其含義及特點:
薄膜集成電路利用厚度通常小于1微米的金屬、半導體或絕緣材料薄膜,通過真空蒸發、濺射、化學氣相沉積等工藝,在玻璃、陶瓷等非導電基闆上形成電阻、電容、電感等無源元件及互連引線。部分設計中還會集成有源器件(如晶體管)或通過混合工藝組裝分立元件。
總結來看,薄膜集成電路通過獨特的材料和工藝實現了電路的高密度集成與性能優化,尤其在高頻、高精度領域具有不可替代性。其技術發展推動了現代電子設備的小型化和功能提升。
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