超微粒幹版英文解釋翻譯、超微粒幹版的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 high resolution plates; ultrafine-grain plate

分詞翻譯：

超微粒的英語翻譯：

【醫】 ultramicron

幹版的英語翻譯：

【計】 dry plate
【化】 plate

專業解析

超微粒幹版（Ultra-Fine Grain Dry Plate）是一種具有極高分辨率和極低顆粒度的特殊攝影感光材料。其核心含義與特性可從漢英詞典角度及專業領域解釋如下：

定義與基本構成 (Definition & Composition)
指塗布在玻璃基闆上的感光乳劑層，其鹵化銀晶體（如溴化銀、碘化銀）經過特殊工藝處理，尺寸遠小于常規乳劑。英文對應術語為 "Ultra-Fine Grain Dry Plate" 或 "High-Resolution Dry Plate"。其核心在于 "超微粒"（Ultra-Fine Grain），強調感光顆粒的微細化程度。這類幹版在制造時需精确控制結晶過程與化學增感條件，以獲得納米級的均勻晶體分布。
核心特性 (Key Characteristics)
- 超高分辨率 (Ultra-High Resolution)：極細的顆粒顯著降低了影像的"顆粒度"(Graininess)，使其能記錄極其微小的細節，遠超過普通膠片或幹版。這對于科學顯微攝影、天文攝影、高精度制版（如光刻掩模版制作）至關重要。
- 低噪點與高清晰度 (Low Noise & High Sharpness)：微粒結構減少了顯影後影像的隨機噪點（顆粒性噪聲），提升了影像的純淨度和邊緣銳度。
- 高反差 (High Contrast)：許多超微粒幹版設計用于高反差場景，能産生黑白分明、中間調較少的影像，特别適合線條圖、文字翻拍和光刻應用。
- 慢速感光 (Slow Speed)：由于顆粒細小，單位面積受光面積減小，通常感光度較低（ISO 值小），需要較長的曝光時間或強光源照明。
主要應用領域 (Primary Applications)
- 科研攝影 (Scientific Photography)：顯微攝影（記錄細胞、晶體結構）、天文攝影（拍攝星體、星雲細節）、光譜分析等需要極緻分辨率的領域。
- 高精度印刷與制版 (High-Precision Printing & Plate Making)：在照相制版工藝中，用于制作印刷電路闆(PCB)的光掩模、平版印刷的網目調屏或直接作為高精度母版。其高分辨率和反差特性是保證印刷精度的關鍵。
- 檔案記錄與文獻複制 (Archival Recording & Document Reproduction)：複制珍貴文獻、圖紙、藝術品等，要求極高的細節保真度和長期保存穩定性。
- 特殊工業檢測 (Specialized Industrial Inspection)：如X射線無損檢測中需要極高清晰度的場合（盡管現代更多使用數字探測器）。

權威參考來源 (Authoritative References):

《英漢光學詞典》(English-Chinese Dictionary of Optics) - 提供專業術語的标準中英對照及基礎解釋。
《攝影大辭典》(Comprehensive Dictionary of Photography) - 詳細闡述各類感光材料的特性、工藝及應用。
專業攝影技術文獻 (如《感光材料科學與技術》) (Professional Photography Literature, e.g., "Science and Technology of Photographic Materials") - 深入講解超微粒乳劑的制備原理、性能表征及其在高端領域的應用實例。
曆史技術檔案與制造商資料 (如柯達、阿克發曆史産品手冊) (Historical Technical Archives & Manufacturer Catalogs, e.g., Kodak, Agfa) - 提供具體産品的技術參數和應用指南。

網絡擴展解釋

超微粒幹版是一種用于光刻制版的高精度感光材料，主要應用于半導體和集成電路制造領域。以下從定義、組成、特點和應用等方面進行詳細解釋：

1.定義與核心特性

超微粒幹版以溴化銀為乳劑，鹵化銀顆粒平均直徑在0.02~0.09微米之間，具有超高分辨率（可達1000線/毫米以上）和低灰霧密度（小于0.005）。其感光層厚度通常為4~8微米，支持高精度圖形曝光。

2.組成與結構

底闆：采用透光率高、穩定性強的玻璃或塑料薄膜。
感光膜：由硝酸銀、鹵化物、明膠等配成乳膠液，并添加增感劑（如螺吡喃金醇）、穩定劑（如三氮吲哚唎嗪）等成分。
防光暈層：部分版本在玻璃背面塗有防光暈塗層，減少反射幹擾。

3.技術特點

高解像力：通過激光幹涉法檢測，解像力可達3000線/毫米。
光譜敏感範圍：對5461埃（e譜線）波長光敏感，適用于精密光學系統。
穩定性：潛影保存時間長，乳膠層與載體結合牢固。

4.應用領域

半導體光刻：用于初縮、精縮工藝中的母版制作，直接影響器件性能和成品率。
集成電路：滿足中大規模集成電路對微小圖形（如微米級線條）的高精度需求。
替代性：盡管金屬掩模逐漸普及，但超微粒幹版在傳統光學制版中仍不可替代。

5.制作工藝

關鍵流程包括玻璃清洗、溶膠（37°C恒溫溶解明膠）、乳化（雙注入法鹵化）等步驟，确保顆粒均勻性和潔淨度。生産需攻克“超微粒”“超平整”等技術難關。

如需更完整的技術參數或工藝流程，可參考知網百科和搜狗百科等來源。