超微粒干版英文解释翻译、超微粒干版的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 high resolution plates; ultrafine-grain plate

分词翻译：

超微粒的英语翻译：

【医】 ultramicron

干版的英语翻译：

【计】 dry plate
【化】 plate

专业解析

超微粒干版（Ultra-Fine Grain Dry Plate）是一种具有极高分辨率和极低颗粒度的特殊摄影感光材料。其核心含义与特性可从汉英词典角度及专业领域解释如下：

定义与基本构成 (Definition & Composition)
指涂布在玻璃基板上的感光乳剂层，其卤化银晶体（如溴化银、碘化银）经过特殊工艺处理，尺寸远小于常规乳剂。英文对应术语为 "Ultra-Fine Grain Dry Plate" 或 "High-Resolution Dry Plate"。其核心在于 "超微粒"（Ultra-Fine Grain），强调感光颗粒的微细化程度。这类干版在制造时需精确控制结晶过程与化学增感条件，以获得纳米级的均匀晶体分布。
核心特性 (Key Characteristics)
- 超高分辨率 (Ultra-High Resolution)：极细的颗粒显著降低了影像的"颗粒度"(Graininess)，使其能记录极其微小的细节，远超过普通胶片或干版。这对于科学显微摄影、天文摄影、高精度制版（如光刻掩模版制作）至关重要。
- 低噪点与高清晰度 (Low Noise & High Sharpness)：微粒结构减少了显影后影像的随机噪点（颗粒性噪声），提升了影像的纯净度和边缘锐度。
- 高反差 (High Contrast)：许多超微粒干版设计用于高反差场景，能产生黑白分明、中间调较少的影像，特别适合线条图、文字翻拍和光刻应用。
- 慢速感光 (Slow Speed)：由于颗粒细小，单位面积受光面积减小，通常感光度较低（ISO 值小），需要较长的曝光时间或强光源照明。
主要应用领域 (Primary Applications)
- 科研摄影 (Scientific Photography)：显微摄影（记录细胞、晶体结构）、天文摄影（拍摄星体、星云细节）、光谱分析等需要极致分辨率的领域。
- 高精度印刷与制版 (High-Precision Printing & Plate Making)：在照相制版工艺中，用于制作印刷电路板(PCB)的光掩模、平版印刷的网目调屏或直接作为高精度母版。其高分辨率和反差特性是保证印刷精度的关键。
- 档案记录与文献复制 (Archival Recording & Document Reproduction)：复制珍贵文献、图纸、艺术品等，要求极高的细节保真度和长期保存稳定性。
- 特殊工业检测 (Specialized Industrial Inspection)：如X射线无损检测中需要极高清晰度的场合（尽管现代更多使用数字探测器）。

权威参考来源 (Authoritative References):

《英汉光学词典》(English-Chinese Dictionary of Optics) - 提供专业术语的标准中英对照及基础解释。
《摄影大辞典》(Comprehensive Dictionary of Photography) - 详细阐述各类感光材料的特性、工艺及应用。
专业摄影技术文献 (如《感光材料科学与技术》) (Professional Photography Literature, e.g., "Science and Technology of Photographic Materials") - 深入讲解超微粒乳剂的制备原理、性能表征及其在高端领域的应用实例。
历史技术档案与制造商资料 (如柯达、阿克发历史产品手册) (Historical Technical Archives & Manufacturer Catalogs, e.g., Kodak, Agfa) - 提供具体产品的技术参数和应用指南。

网络扩展解释

超微粒干版是一种用于光刻制版的高精度感光材料，主要应用于半导体和集成电路制造领域。以下从定义、组成、特点和应用等方面进行详细解释：

1.定义与核心特性

超微粒干版以溴化银为乳剂，卤化银颗粒平均直径在0.02~0.09微米之间，具有超高分辨率（可达1000线/毫米以上）和低灰雾密度（小于0.005）。其感光层厚度通常为4~8微米，支持高精度图形曝光。

2.组成与结构

底板：采用透光率高、稳定性强的玻璃或塑料薄膜。
感光膜：由硝酸银、卤化物、明胶等配成乳胶液，并添加增感剂（如螺吡喃金醇）、稳定剂（如三氮吲哚唎嗪）等成分。
防光晕层：部分版本在玻璃背面涂有防光晕涂层，减少反射干扰。

3.技术特点

高解像力：通过激光干涉法检测，解像力可达3000线/毫米。
光谱敏感范围：对5461埃（e谱线）波长光敏感，适用于精密光学系统。
稳定性：潜影保存时间长，乳胶层与载体结合牢固。

4.应用领域

半导体光刻：用于初缩、精缩工艺中的母版制作，直接影响器件性能和成品率。
集成电路：满足中大规模集成电路对微小图形（如微米级线条）的高精度需求。
替代性：尽管金属掩模逐渐普及，但超微粒干版在传统光学制版中仍不可替代。

5.制作工艺

关键流程包括玻璃清洗、溶胶（37°C恒温溶解明胶）、乳化（双注入法卤化）等步骤，确保颗粒均匀性和洁净度。生产需攻克“超微粒”“超平整”等技术难关。

如需更完整的技术参数或工艺流程，可参考知网百科和搜狗百科等来源。