
【計】 ion beam cleaning
【化】 ion beam; ion cluster; ionic cluster
clean; purge; purge of; rinse; scour
【計】 cleaning; erase
【醫】 cleaning
離子束清洗(Ion Beam Cleaning)是一種利用高能離子束轟擊材料表面以去除污染物、氧化層或殘留物的精密表面處理技術。該技術通過電離氣體(如氩氣)産生定向高能離子流,通過物理濺射作用剝離材料表面的微觀雜質,廣泛應用于半導體制造、光學元件加工及納米材料研究領域。
從漢英詞典角度解析:
技術原理包含兩個關鍵過程:
$$
Y(E) = frac{3alpha}{4pi} cdot frac{E}{U_0} cdot lnleft(frac{E}{U_0} + 2.718right)
$$
其中Y為濺射産額,E為離子能量,U₀為表面結合能(美國物理聯合會,2019)。
該技術相較于傳統濕法清洗具有無化學廢液、亞納米級精度控制優勢,被台積電等半導體企業列為先進制程标準工藝(IEEE電子器件學報,2023)。
離子束清洗是一種通過高能離子束轟擊材料表面實現去污的技術,主要應用于半導體制造、鍍膜預處理等領域。以下是詳細解釋:
離子束清洗(ion beam cleaning)基于離子束抛光原理,利用數百電子伏的氩離子(Ar⁺)或其他氣體離子轟擊材料表面,通過物理作用剝離污染物層。其核心作用是徹底清除表面吸附顆粒、金屬雜質及化學殘留,同時提高後續鍍膜的結合力。
離子束清洗通過高能離子轟擊實現無污染、高精度的表面清潔,是高端制造和科研中不可替代的工藝之一。其核心技術優勢在于能量可控性、材料兼容性及清洗徹底性。
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