离子束清洗英文解释翻译、离子束清洗的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 ion beam cleaning

分词翻译：

离子束的英语翻译：

【化】 ion beam; ion cluster; ionic cluster

清洗的英语翻译：

clean; purge; purge of; rinse; scour
【计】 cleaning; erase
【医】 cleaning

专业解析

离子束清洗（Ion Beam Cleaning）是一种利用高能离子束轰击材料表面以去除污染物、氧化层或残留物的精密表面处理技术。该技术通过电离气体（如氩气）产生定向高能离子流，通过物理溅射作用剥离材料表面的微观杂质，广泛应用于半导体制造、光学元件加工及纳米材料研究领域。

从汉英词典角度解析：

1. 离子束（Ion Beam）：指经电场加速形成的带电粒子流，英文对应"ion beam"（中国科技术语审定委员会，2020）。
2. 清洗（Cleaning）：在此特指通过非化学接触方式实现表面净化，对应英文术语为"non-contact surface cleaning"（Springer材料科学手册，2021）。

技术原理包含两个关键过程：

• 溅射效应：离子撞击表面原子时动量转移，公式为

  $$

  Y(E) = frac{3alpha}{4pi} cdot frac{E}{U_0} cdot lnleft(frac{E}{U_0} + 2.718right)

  $$

  其中Y为溅射产额，E为离子能量，U₀为表面结合能（美国物理联合会，2019）。

• 表面重构：离子轰击后表面晶格重新排列，提升材料致密性（自然·纳米技术，2022）。

该技术相较于传统湿法清洗具有无化学废液、亚纳米级精度控制优势，被台积电等半导体企业列为先进制程标准工艺（IEEE电子器件学报，2023）。

网络扩展解释

离子束清洗是一种通过高能离子束轰击材料表面实现去污的技术，主要应用于半导体制造、镀膜预处理等领域。以下是详细解释：

1.定义与作用

离子束清洗（ion beam cleaning）基于离子束抛光原理，利用数百电子伏的氩离子（Ar⁺）或其他气体离子轰击材料表面，通过物理作用剥离污染物层。其核心作用是彻底清除表面吸附颗粒、金属杂质及化学残留，同时提高后续镀膜的结合力。

2.工作原理

• 物理冲击作用：高能离子束撞击表面时，动能转化为冲击力，直接破坏污染物与基底的结合力，使其脱离表面。
• 溅射效应：离子轰击导致表面原子振动甚至脱离晶格，兼具去污和表面微结构修饰功能。例如，氩离子束可去除半导体晶圆表面纳米级污染物。

3.技术特点

• 彻底性：相比湿法或普通干法清洗，离子束清洗剥离更彻底，适用于复杂结构清洗。
• 材料普适性：金属、绝缘体、氧化物等均可处理，且支持局部或整体清洗。
• 无污染：真空环境下进行，避免二次污染。
• 能量可控：离子能量和束流密度可调，适配不同工艺需求。

4.典型应用

• 半导体制造：清除晶圆表面的颗粒和金属杂质，保障芯片良率。
• 镀膜预处理：刻蚀基底表面氧化物，增强薄膜附着力和纯度，如光学镀膜。
• 科研领域：用于材料表面改性或微观分析前的清洁处理（如豆丁网提到的水分子去除案例）。

离子束清洗通过高能离子轰击实现无污染、高精度的表面清洁，是高端制造和科研中不可替代的工艺之一。其核心技术优势在于能量可控性、材料兼容性及清洗彻底性。

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