
【建】 alloying element
在材料科學與半導體物理領域,"摻雜元素"(Doping Element)指人為添加到純淨半導體或晶體材料中的微量雜質原子,旨在改變其電學、光學或結構性質。其核心概念與作用如下:
漢英詞典釋義
《牛津材料科學詞典》定義摻雜元素為:"Dopant—An impurity element intentionally introduced into a semiconductor to modify its electrical conductivity."(摻雜元素:為改變半導體導電性而人為引入的雜質元素)
中文語境強調"微量添加"(濃度通常為10⁻⁶~10⁻⁹量級)和"可控性",區别于自然雜質。
作用機制
摻雜原子通過提供自由電子(N型摻雜,如磷摻矽)或空穴(P型摻雜,如硼摻矽)改變載流子濃度。例如矽中摻磷後,磷的5個價電子中4個與矽形成共價鍵,多餘1個成為自由電子。
半導體器件核心
引用自《半導體物理與器件(第4版)》(Neamen著),ISBN 978-7-121-13608-3
功能擴展應用
摻雜濃度需精确控制,國際半導體技術路線圖(ITRS)規定:
依據SEMI國際半導體産業标準F57-0306
權威參考來源
摻雜元素是指在材料科學中,為了改變基質材料的物理或化學性能,有目的地向其中加入少量其他元素或化合物的行為。以下是詳細解釋:
摻雜元素是通過物理或化學方法(如離子注入、擴散等)将特定雜質原子引入純淨的基質材料中。其主要目的是調控材料的電學、磁學或光學性質,例如在半導體中調整導電性,或在金屬中增強機械性能。
通過以上方式,摻雜元素成為現代材料工程和電子工業中不可或缺的技術手段。如需更全面信息,來源(如、3、4、9等)。
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