
【建】 alloying element
在材料科学与半导体物理领域,"掺杂元素"(Doping Element)指人为添加到纯净半导体或晶体材料中的微量杂质原子,旨在改变其电学、光学或结构性质。其核心概念与作用如下:
汉英词典释义
《牛津材料科学词典》定义掺杂元素为:"Dopant—An impurity element intentionally introduced into a semiconductor to modify its electrical conductivity."(掺杂元素:为改变半导体导电性而人为引入的杂质元素)
中文语境强调"微量添加"(浓度通常为10⁻⁶~10⁻⁹量级)和"可控性",区别于自然杂质。
作用机制
掺杂原子通过提供自由电子(N型掺杂,如磷掺硅)或空穴(P型掺杂,如硼掺硅)改变载流子浓度。例如硅中掺磷后,磷的5个价电子中4个与硅形成共价键,多余1个成为自由电子。
半导体器件核心
引用自《半导体物理与器件(第4版)》(Neamen著),ISBN 978-7-121-13608-3
功能扩展应用
掺杂浓度需精确控制,国际半导体技术路线图(ITRS)规定:
依据SEMI国际半导体产业标准F57-0306
权威参考来源
掺杂元素是指在材料科学中,为了改变基质材料的物理或化学性能,有目的地向其中加入少量其他元素或化合物的行为。以下是详细解释:
掺杂元素是通过物理或化学方法(如离子注入、扩散等)将特定杂质原子引入纯净的基质材料中。其主要目的是调控材料的电学、磁学或光学性质,例如在半导体中调整导电性,或在金属中增强机械性能。
通过以上方式,掺杂元素成为现代材料工程和电子工业中不可或缺的技术手段。如需更全面信息,来源(如、3、4、9等)。
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