
【电】 plating resist
electroplate; eletroplate; galvanization; galvanoplastics; plate
【计】 electroplating
【化】 electroplating
【医】 galvanization; plating
block; hinder; obstruct
【医】 lock
电镀阻在电镀工艺中指一类用于选择性阻止或抑制金属离子在特定区域沉积的材料或技术手段。其核心目的是在基体表面形成非导电或隔离区域,实现局部电镀、图案化镀层或保护特定部位免受镀层覆盖。以下是详细解释:
字面解析
合并释义:电镀阻即电镀过程中的阻隔介质,用于控制镀层沉积范围。
核心功能
物理阻剂
化学阻剂
电子制造业
汽车与航空航天
装饰性电镀
中文术语 | 英文术语 | 定义简述 |
---|---|---|
电镀阻 | Electroplating Resist | 电镀中阻隔镀层沉积的材料/技术 |
光刻胶 | Photoresist | 光敏性图案化阻剂 |
可剥性阻剂 | Peelable Resist | 镀后可机械剥离的临时涂层 |
阳极氧化层 | Anodized Layer | 铝材表面绝缘氧化膜 |
选择性电镀 | Selective Electroplating | 局部沉积镀层的工艺 |
参考资料:
《现代电镀技术手册》(中国机械工业出版社,2023)
美国电镀与表面处理协会(AESF)技术报告:
国际半导体技术路线图(ITRS):光刻工艺章节
IPC-6012E 刚性印制板鉴定与性能规范
“电镀阻”应指电镀工艺中的阻镀技术,主要用于局部电镀时对非目标区域的保护。以下是详细解释:
阻镀是通过在不需要电镀的物体表面涂覆阻隔涂料(如阻镀漆),形成一层耐酸碱的防护层,从而阻止电镀液与基材接触,避免金属离子在该区域沉积。其核心目的是实现选择性电镀,确保镀层仅覆盖指定区域。
电镀是通过电解作用,在物体表面沉积金属薄膜的工艺,主要功能包括:
阻镀是电镀工艺中重要的辅助技术,通过选择性隔离实现精准加工。若需进一步了解电镀流程或涂料类型,可参考专业电镀手册或行业标准文件。
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