
【化】 interstitial vacancy defect
clear; clearance; gap; interval; space
【化】 back lash; clearance; gap; play; slack
【医】 clearance; diastem; diastema; interspace; space; spatia; spatium
【化】 vacancy defect
间隙空位缺陷是晶体材料学中的基础概念,包含两种原子尺度的结构异常:间隙缺陷(Interstitial Defect)和空位缺陷(Vacancy Defect)。根据《材料科学导论》第三版(清华大学出版社)的定义,间隙缺陷指外来原子或基质原子脱离晶格节点,嵌入晶格间隙位置的现象,例如碳原子在α-Fe中的固溶;空位缺陷则是晶格节点因原子缺失形成的空位,常见于高温退火金属中。
美国国家标准与技术研究院(NIST)的研究指出,这两种缺陷对材料性能有显著影响:间隙原子会引发晶格畸变,降低金属延展性,但可提升半导体载流子浓度;空位缺陷则会减少材料密度,同时作为扩散通道加速离子迁移。日本物质材料研究机构(NIMS)通过透射电镜观测证实,钛合金中0.1%的空位浓度可使屈服强度下降15%。
在工程应用中,德国马普学会的半导体研究报告强调,精确控制硅晶体中的间隙氧原子浓度(<10¹⁷ cm⁻³)是芯片制造的关键工艺参数,直接影响晶体管漏电流特性。而剑桥大学材料系通过第一性原理计算发现,空位团簇的聚集是航空铝合金应力腐蚀开裂的微观诱因。
间隙空位缺陷是晶体材料中的一种点缺陷类型,指晶体内部同时存在空位和间隙原子的复合缺陷结构。以下是详细解释:
间隙空位缺陷又称弗伦克尔缺陷(Frenkel Defect),指晶体中原子的热振动导致其脱离原格点位置,挤入晶格间隙形成间隙原子,同时在原位置留下空位。这种缺陷是空位与间隙原子成对出现的复合缺陷。
间隙空位缺陷是晶体中原子热运动导致的空位-间隙原子复合缺陷,属于弗伦克尔缺陷的典型表现。其形成与温度密切相关,对材料的物理化学性质有重要影响。
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