光罩英文解释翻译、光罩的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 photomask

分词翻译：

光的英语翻译：

light; ray; honour; merely; naked; scenery; smooth
【化】 light
【医】 light; phot-; photo-

罩的英语翻译：

cover
【化】 cage; cap; lid
【医】 shield

专业解析

在汉英词典中，“光罩”对应的英文术语为“photomask”，是半导体制造领域的关键工具。以下为专业角度的详细解释：

定义与功能

光罩（photomask）是一种表面覆盖特定图案的玻璃或石英基板，通过光学投影原理将微米/纳米级电路图形转移到硅片上。其核心功能是充当集成电路（IC）设计图纸的物理载体，控制光刻机曝光过程中的光线透射区域（来源：维基百科“Photomask”词条）。

技术特性

材料构成：采用热膨胀系数极低的高纯度合成石英（纯度>99.999%），搭配铬或氧化钼硅（MoSi）遮光层，确保图形转移精度达到3纳米以下（来源：SEMI国际半导体产业协会标准F32-1105）。
多层结构：包含基板层（Substrate）、遮光层（Absorber）、保护膜（Pellicle）三部分，其中保护膜可防止微粒污染导致的图形缺陷（来源：应用材料公司技术白皮书）。

应用领域

• 晶圆制造：用于28nm至3nm制程的逻辑芯片和存储芯片生产

• 显示面板：OLED蒸镀掩模版（Fine Metal Mask）制造

• 微机电系统（MEMS）：传感器微结构成型

行业标准

国际半导体技术蓝图（ITRS）规定，先进制程光罩需满足：

frac{CD}{4} leq lambda/NA

其中CD（Critical Dimension）为关键尺寸，λ为曝光波长，NA为光学系统数值孔径（来源：IEEE电子器件汇刊第68卷第5期）。

质量检测

采用激光散射检测仪（LSI）和原子力显微镜（AFM）进行缺陷扫描，符合ISO 14644-1 Class 1级洁净度标准（来源：《光刻原理与技术》第三版，ISBN 978-7-121-35011-2）。

网络扩展解释

光罩（英文：Mask/Reticle），又称掩膜版或掩模，是集成电路（IC）制造中的核心工具，用于将设计好的电路图案通过光刻技术精确转移到晶圆表面。以下是其关键解析：

1.定义与作用

光罩是连接芯片设计与物理制造的“桥梁”。其功能类似于照片底片，通过光刻机将图案投影到涂有光刻胶的晶圆上，指导光刻胶选择性固化，最终形成电路结构。

2.基本结构

基底（Substrate）：通常为高纯度石英玻璃，具有高透光性（尤其在深紫外/极紫外波段）和低热膨胀系数，确保图案转移的稳定性。
遮光层（Opaque Layer）：覆盖在基底上的铬（Cr）层，通过电子束刻蚀形成电路图案。透明区域允许光线通过，遮光区域则阻挡光线。

3.分类与类型

传统光罩（Binary Mask）：仅包含完全透明与不透明区域，通过二元曝光形成图案。
其他类型：根据工艺需求，还有相移光罩（Phase-Shift Mask）等复杂类型，用于提升分辨率。

4.重要性

光罩的精度直接影响芯片的制程节点（如纳米级工艺）和良率。其缺陷可能导致晶圆批量报废，因此需通过严格检测（如电子显微镜审查）。

5.应用流程

芯片设计完成后，图案以纳米级精度刻制到光罩上；
光刻机将光罩图案投影至晶圆；
光刻胶经曝光、显影后形成物理结构，进入后续蚀刻等工序。

总结来看，光罩是半导体制造中不可或缺的“模板”，其材料、精度及制造工艺直接决定了芯片的性能与成本。如需进一步了解光罩制造细节或历史演变，可参考相关行业文献或专业资料。