
【化】 etchant; etching(re) agent
蚀刻剂(Etchant)是一种用于通过化学或电化学作用,从材料表面选择性去除部分物质,从而在材料上形成特定图案或纹理的化学溶液或混合物。在工业制造(如半导体、印刷电路板)和艺术创作(如版画)等领域应用广泛。
化学本质
蚀刻剂通常为酸性或碱性溶液(如氢氟酸、硝酸、氢氧化钠),通过氧化还原反应溶解金属、半导体或玻璃等材料的特定区域。例如,氢氟酸(HF)可腐蚀二氧化硅(SiO₂),反应式为:
$$ce{SiO2 + 4HF -> SiF4 + 2H2O}$$
来源:《汉英科学技术词典》化学工业出版社
选择性蚀刻
通过控制成分(如添加缓蚀剂)实现局部腐蚀。在集成电路制造中,氟化铵缓冲液(BHF)可精确蚀刻硅晶圆上的氧化层而不损伤硅基底。
来源:美国化学会《材料化学》期刊术语库
类型 | 典型成分 | 主要应用场景 |
---|---|---|
酸性蚀刻剂 | HCl, HNO₃, H₂SO₄ | 金属加工、PCB铜层蚀刻 |
碱性蚀刻剂 | KOH, NaOH | 硅晶圆微加工、铝材蚀刻 |
干法蚀刻气体 | CF₄, Cl₂ (等离子体) | 半导体纳米级图形化 |
来源:国际电子生产协会(IPC)标准手册
蚀刻剂多具强腐蚀性(如氢氟酸可穿透皮肤导致骨坏死),操作需符合OSHA标准:
来源:美国职业安全与健康管理局技术指南
权威定义参考:
《英汉化学化工词汇》(科学出版社)明确蚀刻剂为“通过化学作用对材料进行有控溶解的介质”;剑桥词典收录其英文对应词“Etchant”释义为“a substance used to etch designs onto metal or glass”。
蚀刻剂是一种通过化学或物理作用选择性腐蚀材料表面的制剂,主要用于制造精密图案、改善材料性能或清除表面杂质。以下是其详细解析:
蚀刻剂是以水或化学溶液为基质,通过溶解、氧化等反应去除材料表面特定区域的物质。其核心功能包括:
根据应用场景不同,蚀刻剂成分差异显著:
现代蚀刻剂多采用低毒配方,部分通过生物降解认证,但仍需注意防护措施。
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