蚀刻英文解释翻译、蚀刻的近义词、反义词、例句

英语翻译：

etch
【化】 etching

例句：

挂在墙上的是一幅精致的教堂蚀刻板画。
Hanging on the wall was a fine etching of the church.
她喜爱作蚀刻画。
She enjoys etching.

分词翻译：

蚀的英语翻译：

corrode; erode; lose

刻的英语翻译：

a quarter; chisel; in the highest degree; moment
【法】 superscription

专业解析

蚀刻 (shíkè)

在汉英词典中，“蚀刻”对应的英文术语为etching。该词具有双重含义，既指一种通过化学或物理手段在材料表面进行腐蚀雕刻的工艺技术（名词），也指实施这一工艺的过程（动词）。

一、核心定义

工艺本质
“蚀刻”是通过酸性溶液、激光或等离子体等介质，对金属、玻璃、硅片等材料的表层进行选择性腐蚀，从而形成永久性图案或文字的技术。其原理是利用抗蚀剂（如光刻胶）保护部分区域，暴露部分则被蚀刻剂溶解。

专业辞书显示，该工艺需精确控制腐蚀深度与精度，属于微纳制造的关键环节。
英文对应术语
- Etching (动词/名词)：指蚀刻行为或工艺本身，例如：“The circuit pattern was etched onto the silicon wafer.”（电路图案被蚀刻到硅晶圆上。）
- Etchant (名词)：特指蚀刻过程中使用的化学腐蚀剂，如氢氟酸（玻璃蚀刻）或氯化铁溶液（铜版蚀刻）。

二、应用领域

艺术创作
传统蚀刻术用于版画制作：艺术家在涂有抗蚀蜡的金属板上刻画图案，酸液腐蚀暴露部分后形成凹槽，再通过油墨拓印成画。代表作品如伦勃朗的蚀刻版画。

《大英百科全书》记载，该技术于15世纪起源于欧洲工匠群体。
工业制造
- 半导体芯片：通过光刻与等离子蚀刻在晶圆上雕刻纳米级电路，精度达纳米级（如5nm工艺）。
- PCB生产：蚀刻铜层形成电子线路，常用氨碱性蚀刻液。
  IEEE文献指出，现代干法蚀刻（如反应离子蚀刻）已逐步替代湿法蚀刻以提升精度。

三、技术分类

类型	原理	典型材料
湿法蚀刻	化学溶液腐蚀	金属、玻璃、硅
干法蚀刻	等离子体或气体化学腐蚀	半导体晶圆、复合材料
电化学蚀刻	电解反应腐蚀	导电金属

四、安全与规范

蚀刻剂多具强腐蚀性或毒性（如氢氟酸可致骨坏死），操作需符合GB 50058-2014《化工企业安全规范》，必须配备防腐蚀装备与应急处理设施。

权威参考来源：

《牛津英汉双解词典》（Oxford Chinese Dictionary）
中国机械工程学会《材料表面处理技术手册》
国际电气与电子工程师协会（IEEE）期刊 《半导体制造技术》

网络扩展解释

蚀刻（Etching）是一种通过化学或物理作用选择性去除材料表面部分区域的技术，主要用于制造精密结构或图案。以下是其详细解释：

1. 定义与分类

蚀刻分为湿蚀刻（Wet Etching）和干蚀刻（Dry Etching）两类：

湿蚀刻：利用液态化学溶液（如硝酸、氢氟酸）腐蚀材料表面，适用于大尺寸器件或非关键层加工，但横向腐蚀明显（各向同性）。
干蚀刻：通过等离子体或反应气体进行物理轰击或化学反应，具有高精度和各向异性（垂直刻蚀），是半导体制造的主流技术。

2. 基本原理

蚀刻的核心是通过光化学工艺实现：

曝光制版：在材料表面涂覆光刻胶，通过掩膜曝光形成图案。
显影：去除未曝光或已曝光区域的光刻胶，暴露需蚀刻的部分。
腐蚀：化学溶液或气体与材料反应，溶解或剥离暴露区域，形成凹凸或镂空结构。

3. 工艺流程

典型步骤包括：

表面准备：清洁材料并涂覆保护膜（如光刻胶）。
蚀刻处理：浸入蚀刻液或暴露于等离子体环境。
清洗与去膜：清除残留蚀刻剂并去除保护层，最终呈现所需图案。

4. 特点与优势

高精度：可实现微米至纳米级加工，适用于半导体芯片等精密器件。
选择性：通过调整蚀刻剂或气体，可针对不同材料实现定向腐蚀。
广泛应用：从传统印刷版（铜版、锌版）到现代航空、电子元件制造均有涉及。

5. 应用领域

印刷业：制造凹凸版印刷模具。
半导体：晶圆电路图形转移，如DRAM、Flash存储器。
微加工：精密仪器镶板、微机电系统（MEMS）等。

如需进一步了解具体工艺参数或行业案例，可参考权威来源如搜狗百科或半导体工艺文献。