束流控制英文解释翻译、束流控制的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 beam steering

分词翻译：

束的英语翻译：

bind; bundle; colligate; faggot; fagot; restrain; sheaf; tie; truss
【计】 beam
【医】 beam; bundle; Fasc.; fasciculi; fasciculus; fasicle; tract; tractus
【经】 bundle

流控制的英语翻译：

【计】 flow control; stream control

专业解析

束流控制（Beam Control）在专业领域中指对带电粒子束（如电子束、离子束、质子束）或电磁波束（如激光束）的运动轨迹、强度、形状及稳定性进行精确调控的技术与方法。其核心目标包括聚焦、导向、加速/减速、整形及抑制束流发散或振荡，确保束流按需作用于特定目标区域。以下是关键维度的解释：

一、核心定义与技术内涵

束流（Beam）
指在真空或介质中定向运动的高能粒子群或相干电磁波集合，常见于粒子加速器、核聚变装置、离子注入机、医疗放疗设备（如质子治疗）及工业加工（如激光切割）。

来源：欧洲核子研究中心（CERN）技术文档
控制（Control）
通过电磁场（磁场/电场）、射频腔、束流诊断仪器等硬件系统，结合反馈算法实现：
- 轨迹校正：利用四极磁铁（Quadrupole Magnets）聚焦束流，二极磁铁（Dipole Magnets）偏转路径；
- 强度调制：通过静电闸门或射频踢轨器（RF Kicker）调节粒子通量；
- 稳定性维持：实时监测束流位置/强度波动（如束流位置探测器BPM），并闭环抑制振荡。
  来源：美国物理学会（APS）《加速器物理综述》

二、典型应用场景

高能物理实验：在大型强子对撞机（LHC）中，超导磁铁系统将质子束约束于毫米级管道，维持束流碰撞精度（例：$Delta p/p < 10^{-4}$）。
核聚变装置：托卡马克中离子束的注入控制需克服等离子体湍流干扰，确保能量高效沉积（如ITER项目的束流加热系统）。
半导体制造：离子注入机通过静电透镜精确控制掺杂束流角度，实现纳米级芯片工艺。
来源：国际原子能机构（IAEA）聚变能报告；应用物理杂志（JAP）离子注入技术专刊

三、关键技术参数

关键性能指标包括：

束流发射度（Beam Emittance）：表征束流相空间密度，单位 mm·mrad（$epsilon_x = frac{1}{pi} iint dx dx'$）；
束流负载效应（Beam Loading）：束流与加速电场能量交换导致的稳定性挑战；
闭环响应时间：通常需 $leq 1 mu s$ 以抑制束流抖动。
来源：斯坦福直线加速器中心（SLAC）《束流动力学手册》

四、权威定义参考

IEEE 核科学与等离子体工程学会定义束流控制为："通过电磁场与反馈系统对带电粒子束的空间分布、时间结构及能量实现动态操纵的过程"。
中科院高能物理研究所强调其涵盖"束流诊断、轨道校正、反馈稳束及自动化操作四大子系统"。
来源：IEEE Xplore 数据库；中国科学院年度报告

网络扩展解释

关于“束流控制”的详细解释如下：

一、基本概念

束流控制指对高能粒子束或电子束的强度、形状、轨迹等参数进行精确调控的技术，主要应用于工业加工、显像管技术等领域。其核心是通过闭环系统实现动态调整，确保稳定性和精度。

二、主要应用领域

显像管电子束控制
通过检测阴极电子束的电流状态（如栅极电流），反馈至控制芯片，调整电子枪电位，防止老化并维持正常发射状态。此为典型的闭环控制系统。
高能束流加工
包括激光束、电子束、离子束（统称“三束”）的控制：
- 强度控制：调节功率密度（通常≥10³ W/cm²），适应不同材料加工需求。
- 轨迹控制：通过电磁场或光学元件调整束流路径，实现精密加工。
- 形状控制：聚焦或扩散束斑，匹配加工目标尺寸。

三、控制系统特点

闭环反馈：依赖实时监测数据调整参数，如显像管中通过栅极电流反馈调节电压。
多维度调控：需同步控制束流本身（强度、轨迹）、工件位移及加工环境（如真空度）。
高精度要求：尤其在微米级加工中，需避免束流偏移或能量波动导致的误差。

四、补充说明

“束流”一词在文学语境中可指“狭窄的水流”（如），但技术场景下特指载能粒子流。需结合上下文区分具体含义。

如需进一步了解某类束流控制的具体原理，可参考相关工程文献或行业标准。