束流控制英文解釋翻譯、束流控制的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【電】 beam steering

分詞翻譯：

束的英語翻譯：

bind; bundle; colligate; faggot; fagot; restrain; sheaf; tie; truss
【計】 beam
【醫】 beam; bundle; Fasc.; fasciculi; fasciculus; fasicle; tract; tractus
【經】 bundle

流控制的英語翻譯：

【計】 flow control; stream control

專業解析

束流控制（Beam Control）在專業領域中指對帶電粒子束（如電子束、離子束、質子束）或電磁波束（如激光束）的運動軌迹、強度、形狀及穩定性進行精确調控的技術與方法。其核心目标包括聚焦、導向、加速/減速、整形及抑制束流發散或振蕩，确保束流按需作用于特定目标區域。以下是關鍵維度的解釋：

一、核心定義與技術内涵

束流（Beam）
指在真空或介質中定向運動的高能粒子群或相幹電磁波集合，常見于粒子加速器、核聚變裝置、離子注入機、醫療放療設備（如質子治療）及工業加工（如激光切割）。

來源：歐洲核子研究中心（CERN）技術文檔
控制（Control）
通過電磁場（磁場/電場）、射頻腔、束流診斷儀器等硬件系統，結合反饋算法實現：
- 軌迹校正：利用四極磁鐵（Quadrupole Magnets）聚焦束流，二極磁鐵（Dipole Magnets）偏轉路徑；
- 強度調制：通過靜電閘門或射頻踢軌器（RF Kicker）調節粒子通量；
- 穩定性維持：實時監測束流位置/強度波動（如束流位置探測器BPM），并閉環抑制振蕩。
  來源：美國物理學會（APS）《加速器物理綜述》

二、典型應用場景

高能物理實驗：在大型強子對撞機（LHC）中，超導磁鐵系統将質子束約束于毫米級管道，維持束流碰撞精度（例：$Delta p/p < 10^{-4}$）。
核聚變裝置：托卡馬克中離子束的注入控制需克服等離子體湍流幹擾，确保能量高效沉積（如ITER項目的束流加熱系統）。
半導體制造：離子注入機通過靜電透鏡精确控制摻雜束流角度，實現納米級芯片工藝。
來源：國際原子能機構（IAEA）聚變能報告；應用物理雜志（JAP）離子注入技術專刊

三、關鍵技術參數

關鍵性能指标包括：

束流發射度（Beam Emittance）：表征束流相空間密度，單位 mm·mrad（$epsilon_x = frac{1}{pi} iint dx dx'$）；
束流負載效應（Beam Loading）：束流與加速電場能量交換導緻的穩定性挑戰；
閉環響應時間：通常需 $leq 1 mu s$ 以抑制束流抖動。
來源：斯坦福直線加速器中心（SLAC）《束流動力學手冊》

四、權威定義參考

IEEE 核科學與等離子體工程學會定義束流控制為："通過電磁場與反饋系統對帶電粒子束的空間分布、時間結構及能量實現動态操縱的過程"。
中科院高能物理研究所強調其涵蓋"束流診斷、軌道校正、反饋穩束及自動化操作四大子系統"。
來源：IEEE Xplore 數據庫；中國科學院年度報告

網絡擴展解釋

關于“束流控制”的詳細解釋如下：

一、基本概念

束流控制指對高能粒子束或電子束的強度、形狀、軌迹等參數進行精确調控的技術，主要應用于工業加工、顯像管技術等領域。其核心是通過閉環系統實現動态調整，确保穩定性和精度。

二、主要應用領域

顯像管電子束控制
通過檢測陰極電子束的電流狀态（如栅極電流），反饋至控制芯片，調整電子槍電位，防止老化并維持正常發射狀态。此為典型的閉環控制系統。
高能束流加工
包括激光束、電子束、離子束（統稱“三束”）的控制：
- 強度控制：調節功率密度（通常≥10³ W/cm²），適應不同材料加工需求。
- 軌迹控制：通過電磁場或光學元件調整束流路徑，實現精密加工。
- 形狀控制：聚焦或擴散束斑，匹配加工目标尺寸。

三、控制系統特點

閉環反饋：依賴實時監測數據調整參數，如顯像管中通過栅極電流反饋調節電壓。
多維度調控：需同步控制束流本身（強度、軌迹）、工件位移及加工環境（如真空度）。
高精度要求：尤其在微米級加工中，需避免束流偏移或能量波動導緻的誤差。

四、補充說明

“束流”一詞在文學語境中可指“狹窄的水流”（如），但技術場景下特指載能粒子流。需結合上下文區分具體含義。

如需進一步了解某類束流控制的具體原理，可參考相關工程文獻或行業标準。