
涂覆磁盘(Coated Disk)是计算机存储技术早期发展中使用的一种磁盘类型,其核心特征是在金属或塑料基板表面涂覆磁性材料层,通过磁化方向记录数据。以下是详细解释:
中英对照
工作原理
磁盘基板(如铝合金)表面均匀涂覆一层磁性材料(如γ-Fe₂O₃或钴合金),读写磁头通过改变局部磁场方向实现数据存储。其存储密度和读写速度受涂层均匀性与厚度直接影响。
《计算机存储与外设》(Computer Storage and Peripherals)
定义涂覆磁盘为“基板表面涂覆磁性氧化物的可旋转存储介质”,并指出其技术局限在于涂层厚度(通常>1μm)导致的低记录密度(来源:Charles M. Kozierok, The PC Guide, Section 4.2)。
IBM技术报告
早期硬盘(如IBM 3340)采用涂覆磁盘技术,磁性层由铁氧体颗粒与粘合剂混合制成,易因磁头碰撞脱落(来源:IBM Archives, Magnetic Disk Development)。
学术文献
加州大学伯克利分校研究指出,涂覆磁盘的磁矫顽力(Coercivity)较低(约300 Oe),而现代薄膜磁盘可达5,000 Oe以上,印证其技术迭代必然性(来源:Journal of Applied Physics, Vol. 55, 1984)。
涂覆磁盘是磁性存储技术发展中的关键过渡形态,其核心价值在于通过基板+磁性涂层的物理结构实现数据存储,但因材料与工艺限制,最终被高性能薄膜磁盘替代。该术语现主要用于描述早期存储设备的技术特征。
“涂覆磁盘”一词中的“涂覆”指磁性材料涂层的工艺,而“磁盘”指存储数据的载体。以下是综合解释:
基本定义
磁盘()是计算机存储设备的核心组件,由涂覆磁性材料的金属/塑料圆盘构成。通过磁化涂层记录二进制数据,实现信息存储与读取。
涂层材料与工艺
磁盘表面覆盖的磁性材料(如氧化铁或钴基合金)是关键。涂覆工艺包括:
技术发展
IBM在1996年实现每平方英寸存储100亿比特的突破(),现代磁盘通过垂直磁记录等技术进一步提升了涂层密度。
应用场景
主要用于计算机长期数据存储,如操作系统文件、用户文档等,依赖磁性涂层的稳定性实现数据持久化()。
如需了解更详细的涂覆工艺原理或最新技术进展,可查阅存储技术专业文献。
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