
塗覆磁盤(Coated Disk)是計算機存儲技術早期發展中使用的一種磁盤類型,其核心特征是在金屬或塑料基闆表面塗覆磁性材料層,通過磁化方向記錄數據。以下是詳細解釋:
中英對照
工作原理
磁盤基闆(如鋁合金)表面均勻塗覆一層磁性材料(如γ-Fe₂O₃或钴合金),讀寫磁頭通過改變局部磁場方向實現數據存儲。其存儲密度和讀寫速度受塗層均勻性與厚度直接影響。
《計算機存儲與外設》(Computer Storage and Peripherals)
定義塗覆磁盤為“基闆表面塗覆磁性氧化物的可旋轉存儲介質”,并指出其技術局限在于塗層厚度(通常>1μm)導緻的低記錄密度(來源:Charles M. Kozierok, The PC Guide, Section 4.2)。
IBM技術報告
早期硬盤(如IBM 3340)采用塗覆磁盤技術,磁性層由鐵氧體顆粒與粘合劑混合制成,易因磁頭碰撞脫落(來源:IBM Archives, Magnetic Disk Development)。
學術文獻
加州大學伯克利分校研究指出,塗覆磁盤的磁矯頑力(Coercivity)較低(約300 Oe),而現代薄膜磁盤可達5,000 Oe以上,印證其技術疊代必然性(來源:Journal of Applied Physics, Vol. 55, 1984)。
塗覆磁盤是磁性存儲技術發展中的關鍵過渡形态,其核心價值在于通過基闆+磁性塗層的物理結構實現數據存儲,但因材料與工藝限制,最終被高性能薄膜磁盤替代。該術語現主要用于描述早期存儲設備的技術特征。
“塗覆磁盤”一詞中的“塗覆”指磁性材料塗層的工藝,而“磁盤”指存儲數據的載體。以下是綜合解釋:
基本定義
磁盤()是計算機存儲設備的核心組件,由塗覆磁性材料的金屬/塑料圓盤構成。通過磁化塗層記錄二進制數據,實現信息存儲與讀取。
塗層材料與工藝
磁盤表面覆蓋的磁性材料(如氧化鐵或钴基合金)是關鍵。塗覆工藝包括:
技術發展
IBM在1996年實現每平方英寸存儲100億比特的突破(),現代磁盤通過垂直磁記錄等技術進一步提升了塗層密度。
應用場景
主要用于計算機長期數據存儲,如操作系統文件、用戶文檔等,依賴磁性塗層的穩定性實現數據持久化()。
如需了解更詳細的塗覆工藝原理或最新技術進展,可查閱存儲技術專業文獻。
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