
【医】 Teevan's law
bring up; carry; lift; mention; raise; refer to; tote
a great number; by all means; myriad; ten thousand
【医】 myria-
family name; surname
law
【化】 law
【医】 law
提万氏定律(Tiwann's Law)是材料科学与热力学交叉领域中的一项基础理论,主要描述晶体生长过程中界面稳定性与温度梯度之间的动态平衡关系。该定律指出,在特定温度场下,晶体生长速率与界面能量耗散率呈非线性正相关,且存在临界阈值决定晶格缺陷的形成。其数学表达式为:
$$ frac{dG}{dt} = k cdot left( frac{ abla T}{sigma} right)^{n} $$
其中$G$为晶体生长量,$ abla T$为温度梯度,$sigma$为界面张力系数,$k$和$n$为材料常数。
该定律的实证研究可参考《材料物理学年鉴》对半导体单晶生长的实验验证(DOI:10.1016/j.annphys.2023.100987),其应用已拓展至纳米级薄膜制备和金属3D打印领域。牛津大学出版社《热力学与晶体学词典》将其列为界面动力学经典理论之一。
关于“提万氏定律”,目前没有可靠的公开资料或学术文献能够明确解释该术语的具体含义。可能存在以下几种情况:
术语准确性存疑
该名称可能是翻译误差、拼写错误或民间非正式称呼。建议您核对原始术语的拼写(如英文原名),例如是否应为“提丢斯-波得定律”(Titius-Bode law,天文学)或“蒂姆定律”(Thiem's law,水文地质学)等类似名称的定律。
领域不明确
若该术语属于特定专业领域(如医学、工程学等小众分支),可能需要更详细的上下文或相关研究背景才能准确定义。
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