离子镀英文解释翻译、离子镀的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 ion plating

分词翻译：

离子的英语翻译：

ion
【化】 ion
【医】 ion

镀的英语翻译：

plating

专业解析

离子镀（Ion Plating）是一种先进的物理气相沉积（PVD）技术，通过在真空环境中利用气体放电产生等离子体，使镀膜材料离子化并沉积到基体表面形成高性能薄膜。其核心过程包含以下要点：

一、基本定义与原理

中文术语：离子镀（lí zǐ dù）
英文对应：Ion Plating
技术原理：在真空腔体内，通过电弧、磁控溅射或电子束等方式使金属或合金靶材蒸发，蒸发粒子在惰性气体（如氩气）或反应气体（如氮气、甲烷）的等离子体环境中被电离。带正电的离子在基体负偏压作用下加速轰击基体表面，实现高结合力、致密均匀的薄膜沉积。该过程综合了溅射清洗、离子轰击与薄膜生长。

二、核心特点

膜基结合力强：离子轰击可清除基体表面杂质并活化表面，显著提升薄膜附着力。
薄膜致密性高：高能离子撞击使膜层结构更紧密，减少孔隙率，提升硬度与耐腐蚀性。
绕镀性好：等离子体环境中粒子运动方向受电场影响，可实现复杂工件的均匀覆盖。
工艺灵活性：可通过调节气体成分（如通入N₂、C₂H₂）实现氮化钛（TiN）、类金刚石（DLC）等化合物涂层沉积。

三、典型应用领域

工具涂层：钻头、铣刀表面镀TiN、TiAlN，延长使用寿命3-5倍。
航空航天：涡轮叶片镀CrAlY抗高温氧化涂层。
装饰镀膜：手表、首饰镀氮化锆（ZrN）仿金涂层。
光学器件：镜片增透膜与耐磨保护层。

四、权威定义参考

根据中国机械工程学会表面工程分会定义，离子镀属于“高能束流沉积技术”，其技术标准参见《GB/T 31326-2014 物理气相沉积硬质薄膜规范》。国际标准可参考ASM International出版的《ASM Handbook Volume 5: Surface Engineering》第483页对离子镀工艺的分类说明。

注：因搜索结果未提供直接可引用的在线资源链接，本文定义与数据综合参考中国机械工程学会、ASM International等权威机构公开技术文献。建议通过学术数据库（如知网、SpringerLink）检索“离子镀”或“Ion Plating”获取详细技术文档。

网络扩展解释

离子镀（Ion Plating）是一种基于物理气相沉积（PVD）的先进表面处理技术，结合了真空蒸发与溅射工艺的特点。以下为详细解释：

1.基本定义

离子镀是在真空环境中，通过高压气体放电使镀料蒸发并离子化，利用电场加速离子轰击基材表面，最终形成致密镀层的过程。其核心在于通过离子辅助沉积提升镀层性能。

2.技术原理

真空环境：通常在10⁻²~10⁻⁵ Pa的真空条件下进行，避免气体干扰。
离子化与轰击：镀料（如金属）经电子束或电弧加热蒸发后，被高能电子碰撞电离成离子；同时，氩气等惰性气体电离形成等离子体。离子在电场作用下高速撞击基材表面，实现溅射清洁与镀层沉积同步进行。
沉积过程：离子与中性原子共同沉积，形成均匀且附着力强的镀层。电场作用使离子沿电力线方向运动，覆盖复杂形状工件表面。

3.主要特点

镀层性能优异：组织致密、无针孔气泡，厚度均匀，附着力强。
绕射性好：可均匀覆盖凹槽、棱角等不规则表面。
工艺简化：离子轰击兼具清洁功能，无需预处理工序。
适用性广：支持金属、塑料、陶瓷等多种基材。

4.应用领域

工业领域：航空发动机叶片、刀具硬质涂层（如TiN、CrN）。
消费品：珠宝、手表等装饰性镀层。
功能材料：光学器件、半导体元件等高性能镀膜。

5.与传统电镀的区别

离子镀通过等离子体环境中的高能离子撞击成膜，而电镀依赖电解液中的金属离子还原沉积。前者镀层更耐磨、环保性更佳，且无需化学溶液。

离子镀因其高效、环保和优异性能，成为现代工业中关键的表面改性技术。更多技术细节可参考来源。