符合光罩英文解釋翻譯、符合光罩的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【電】 conformable optical mask

accord; be consonant with; cohere; coincide; come up to; conform; correspond
fit
【計】 correspondency
【醫】 homology

【電】 photomask

在半導體制造領域，"符合光罩"（Photomask）是指用于光刻工藝的精密光學模闆，其核心功能是将集成電路設計圖案轉化為晶圓表面的物理結構。該術語由"符合"（compliance）和"光罩"（mask）構成，前者強調制造工藝與設計規範的嚴格匹配，後者指代圖案轉移的物理載體。

根據國際半導體技術路線（ITRS）定義，光罩需滿足以下特性：

行業數據顯示（SEMI标準M74-1108），現代極紫外（EUV）光罩采用多層钼/矽反射堆疊結構，反射率可達69.8%±0.3%，支持13.5nm波長曝光工藝。美國國家标準與技術研究院（NIST）的測試報告指出，先進光罩定位精度需滿足3σ≤1.2nm的誤差範圍。

在質量控制層面，ASML的TWINSCAN系統采用基于衍射的相位測量技術，通過公式計算掩模誤差增強因子（MEEF）： $$ MEEF = frac{ΔCD{wafer}}{ΔCD{mask}} $$ 其中ΔCD代表臨界尺寸變化量，理想值應趨近于1。

“光罩”（又稱掩模版或掩膜）是半導體光刻工藝中的核心元件，其作用是将芯片設計圖案精确轉移到晶圓表面，是連接設計與制造的橋梁。以下是詳細解釋：

定義與功能
光罩是一個帶有電路圖案的透明或半透明基闆（通常為石英玻璃），表面覆蓋不透明材料（如鉻）形成圖案。在光刻過程中，紫外線透過光罩照射到塗有光刻膠的晶圓上，使光刻膠選擇性固化，從而形成電路結構。
核心組成
- 基闆：高純度石英或玻璃，确保透光性和熱穩定性。
- 遮光層：鉻等材料構成的電路圖案層，阻擋光線通過。
- 保護膜：防止遮光層在工藝中受損。
重要性
光罩的精度直接決定芯片的制程水平和性能。例如，7納米芯片需要光罩的線寬誤差控制在納米級以内。若光罩存在缺陷，會導緻晶圓批量報廢，因此其制造需超潔淨環境和高精度設備（如電子束光刻機）。
制造與使用流程
- 設計轉換：将芯片設計文件轉化為光罩圖案。
- 圖案刻蝕：通過電子束或激光在遮光層刻出電路圖形。
- 清洗檢測：去除雜質并檢查缺陷。
- 光刻應用：在光刻機中與晶圓對準，完成圖案投影。

若“符合光罩”指特定标準的光罩（如特定工藝節點或材料要求），需結合具體技術參數（如線寬、透光率等）進行適配。實際應用中，光罩需符合國際半導體技術路線圖（ITRS）或廠商定制規範。