
【電】 fused-junction transistor
alloy; metal
【化】 alloy
【醫】 alloy
【經】 alloy
receive; accept
【電】 connecting
face; surface; cover; directly; range; scale; side
【醫】 face; facies; facio-; prosopo-; surface
transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
合金接面晶體管(Alloy Junction Transistor)是一種早期半導體器件,其名稱來源于制造工藝中采用的合金化技術。該器件由三層半導體材料構成,通過熔融合金電極與半導體基底形成PN結,屬于雙極型晶體管(BJT)的一種基礎形态。以下從漢英術語對應及技術原理角度展開解釋:
結構組成與術語解析
中文"合金接面"對應英文"alloy junction",指通過加熱合金材料(如铟球)與N型鍺或矽基底熔融結合形成的PN結。三個電極分别為發射極(Emitter)、基極(Base)和集電極(Collector),其中基極層厚度約數十微米。
制造工藝特性
制造過程中采用兩次合金化工藝:首先在半導體晶片兩側放置合金小球,高溫加熱使合金材料與半導體熔合,冷卻後形成兩個背對背的PN結。該工藝區别于擴散法,結深由合金材料與半導體的相變過程控制。
電氣特性與局限
合金結晶體管基區電阻較大,導緻高頻性能受限(截止頻率約3MHz),主要適用于低頻放大電路。其電流放大系數α與材料純度直接相關,早期産品α值多低于0.95。
曆史演進
作為1950年代主流晶體管類型,合金結晶體管後被擴散型晶體管取代。美國貝爾實驗室1951年公布的A型晶體管即屬此類,标志着固态電子器件商用化的重要裡程碑。
參考資料:
“合金接面晶體管”這一術語可能是指早期晶體管技術中的一種類型,其名稱可能因翻譯或曆史術語差異存在不同表述。根據電子器件發展曆史,可推測其對應的是“合金結型晶體管”(Alloy Junction Transistor),以下是詳細解釋:
合金接面晶體管是一種雙極型晶體管(BJT),通過合金工藝在半導體材料上形成PN結。它屬于早期晶體管技術(如20世紀50年代),主要用于低頻放大電路,後來逐漸被擴散法或平面工藝取代。
材料基礎
通常以鍺(Ge)或矽(Si)單晶作為基片(基區),在兩側通過高溫熔融金屬合金小球(如铟),形成發射極和集電極。例如:
合金過程
在高溫下,金屬合金與半導體材料熔合,冷卻後形成合金結。這種工藝能精确控制結深和摻雜濃度,但難以實現高頻性能優化。
現代晶體管多采用擴散法或外延生長法,通過高溫擴散雜質形成結,能制造更薄基區,提升頻率特性。而合金法因工藝限制逐漸被淘汰。
合金結型晶體管是半導體技術發展的重要裡程碑,為後續更複雜的器件(如場效應晶體管、集成電路)奠定了基礎。
如果需要更專業的文獻支持,建議參考半導體器件發展史相關書籍或論文。
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