柯達金屬抗蝕劑英文解釋翻譯、柯達金屬抗蝕劑的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【計】 kodak metal etch resist

分詞翻譯：

柯的英語翻譯：

【建】 chry-; chryso-

達的英語翻譯：

express; extend; reach
【法】 ad

金屬的英語翻譯：

metal
【化】 metal
【醫】 metal
【經】 metal

抗蝕劑的英語翻譯：

【化】 anticorrosive additive; resist

專業解析

柯達金屬抗蝕劑（Kodak Metal Etch Resist）是一種在微電子制造、印刷電路闆（PCB）加工等領域使用的特殊光敏材料。其核心功能是作為保護性塗層，在金屬蝕刻過程中選擇性地阻擋蝕刻劑對特定區域的侵蝕，從而形成精密的金屬電路圖案。

術語定義與核心功能
- 抗蝕劑 (Resist)：指一類對化學蝕刻劑、離子束或等離子體具有抵抗能力的材料。在光刻工藝中，它通過光照（通常是紫外光）引發化學反應，使得曝光區域與非曝光區域在顯影液中表現出不同的溶解度，從而形成圖案化的保護層。
- 金屬抗蝕劑 (Metal Etch Resist)：特指應用于金屬表面，用于在後續蝕刻步驟中保護特定區域金屬不被去除的材料。柯達金屬抗蝕劑通常指由柯達公司（或其相關業務部門）生産或曾經生産的此類産品。
- 工作原理：在基闆（如覆銅闆）上塗覆抗蝕劑→ 曝光（通過掩模版傳遞電路圖案）→ 顯影（去除可溶部分，露出需要蝕刻的金屬區域）→ 蝕刻（使用化學蝕刻液溶解暴露的金屬）→ 去膠（去除剩餘的抗蝕劑層），最終得到設計的金屬線路。
關鍵特性與要求
- 高分辨率：能夠精确轉移微細圖案，滿足現代電子器件小型化需求。
- 良好附着力：在蝕刻過程中牢固附着在金屬表面，防止蝕刻液滲透導緻圖形缺陷。
- 抗蝕性強：對特定的蝕刻化學品（如酸性或堿性蝕刻液）具有優異的耐受性。
- 光敏性：對特定波長的光敏感，确保高效的圖案化過程。
- 工藝兼容性：與塗布、曝光、顯影、蝕刻、去膠等标準工藝流程兼容。
主要應用領域
- 印刷電路闆制造：用于在覆銅箔層壓闆上制作精細的導線和焊盤圖案，是PCB生産的核心材料之一。
- 半導體封裝：在引線框架、基闆等金屬部件的微細加工中起圖形轉移和保護作用。
- 金屬标牌與裝飾：用于制作具有複雜圖案的金屬銘牌、裝飾件等。
- 微機電系統：在制造微型傳感器、執行器等器件時用于金屬結構的圖形化。

來源參考：

術語定義參考：《英漢材料科學技術詞典》、《微電子制造科學原理與工程技術》
光刻與抗蝕劑原理參考：美國化學會（ACS）出版物相關材料科學文獻
應用領域參考：國際印刷電路協會（IPC）标準文件、半導體産業協會（SIA）技術路線圖
柯達公司曆史産品信息：建議參考柯達公司（Eastman Kodak Company）官方技術文檔或曆史産品手冊（可通過其官網或科技圖書館獲取）。

網絡擴展解釋

柯達金屬抗蝕劑（KMER）是"Kodak Metal Etch Resist"的縮寫，屬于光刻膠技術領域的專業術語。以下為詳細說明：

定義與核心功能 KMER指由柯達公司開發的一種金屬蝕刻保護材料，主要用于微電子制造和印刷電路闆（PCB）加工領域。其核心功能是通過光刻工藝形成抗蝕膜，在金屬蝕刻過程中保護特定區域不被化學試劑腐蝕。
典型應用場景 • 半導體芯片制造中的金屬層圖案化 • PCB線路闆蝕刻工藝流程 • 精密金屬元件的微細結構加工
技術背景該材料屬于早期光刻膠技術體系，隨着技術進步，現代更多使用分辨率更高的光阻材料。但KMER作為柯達在20世紀電子材料領域的重要創新，具有曆史意義。
縮寫解析 KMER作為專業縮寫在工程文件中常見，全稱需注意首字母大寫規範：Kodak（公司名）→ Metal（金屬）→ Etch（蝕刻）→ Resist（抗蝕劑）。

如需了解具體化學組成或工藝參數，建議參考專業電子材料手冊或柯達曆史技術文檔。