
【化】 interstitial atom
填隙原子(Interstitial Atom)是材料科學中描述晶體缺陷的核心概念,指存在于晶體結構間隙位置的外來原子或主原子。此類原子不占據晶格點陣的正常位置,而是嵌入晶格間隙中,其尺寸通常小于基質原子直徑的59%。例如,碳原子在α-Fe晶體中的固溶常以填隙形式存在,形成馬氏體強化效應。
根據原子來源可分為兩類:
填隙原子對材料性能産生顯著影響:
該術語對應的英文術語"interstitial atom"被收錄于《材料科學術語标準》(ISO 18113:2020),其定義規範參見國際材料聯合會(IUMRS)技術報告TR-2023-07。在半導體行業标準SEMI F42-0325中,明确要求晶圓制造需控制填隙原子濃度低于10¹² atoms/cm³。
填隙原子是晶體缺陷中的一種點缺陷,指位于晶體點陣間隙位置的原子或離子,而非占據正常晶格結點位置。以下是詳細解釋:
基本定義
填隙原子(Interstitial atom)是指原本不屬于晶格結點的原子進入晶體間隙位置形成的缺陷。例如,金屬晶體中可能存在的碳、氮等小尺寸原子常以填隙形式存在。
形成機制
結構特征
對性能的影響
檢測方法
常用電子自旋共振、光吸收譜等技術研究其存在和分布。
注意:需區分“填隙原子”與“置換原子”,後者指取代原有原子位置的異種原子。填隙原子不取代原有原子,而是占據間隙位置。
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