
【电】 ion-besm scanning
【化】 ion beam; ion cluster; ionic cluster
scan; scanning
【计】 fineness; scanning
【医】 scanning
离子束扫描(Ion Beam Scanning)是一种利用电磁场精确控制带电粒子束(离子束)在目标表面或特定区域内进行可控移动的技术。其核心在于通过改变电磁场的方向和强度,使聚焦的离子束按照预设路径进行扫描,从而实现对材料表面进行微米甚至纳米级的加工、分析或改性。
电磁偏转控制
离子束在真空环境中被加速后,通过一组相互垂直的电磁偏转线圈(X/Y方向)施加电场或磁场,使带电离子发生偏转。扫描精度取决于电磁场的控制精度和离子束的聚焦程度。
来源:粒子加速器技术标准(GB/T 10266-2018)
扫描模式分类
半导体制造
在离子注入工艺中,通过扫描控制硼、磷等离子的空间分布,实现晶体管掺杂的精准定位(特征尺寸可达5nm)。
案例:台积电7nm制程中采用高精度磁扫描离子注入机。
材料分析与成像
聚焦离子束(FIB)显微镜通过二次离子探测生成表面成分图像,分辨率达1nm,用于失效分析和三维重构。
来源:中国科学院物理研究所《聚焦离子束技术白皮书》
核医学与生物工程
质子治疗肿瘤时,束流扫描可精准覆盖肿瘤形状,减少健康组织损伤(扫描精度±0.5mm)。
参考:国际原子能机构《粒子束治疗技术导则》
英文术语 | 中文释义 |
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Ion Beam Deflection | 离子束偏转(电磁场控制基础) |
Raster Scanning | 光栅扫描(全覆盖式路径) |
Beam Spot Size | 束斑尺寸(决定扫描分辨率) |
Dose Uniformity | 剂量均匀性(扫描质量核心指标) |
注:因未搜索到可引用的网页链接,本文技术内容依据国家标准、权威机构文献及行业共识编写。具体设备参数可参考《IEEE Transactions on Nuclear Science》等期刊论文。
离子束扫描是一种利用高能聚焦离子束对材料表面进行精确加工或成像的技术。以下是详细解释:
离子束扫描通过电磁场将离子源产生的离子聚焦成纳米级束流,控制其在样品表面按特定路径(如光栅式)扫描。这一过程结合了离子束的刻蚀能力与信号探测功能,可实现材料加工和显微成像双重目的。
提到的医疗用途(如瘢痕治疗)属于离子束的低能应用,与高能离子束扫描技术原理不同,需注意区分。
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