
【计】 junction temperature
congeal; form; knot; settle; vinculum; weave
【医】 knob; knot; node; nodule; noduli; nodulus; nodus; noeud
lukewarm; review; temperature; warm; warm up
【医】 Calef.; therm-; thermo-
在电子工程领域,"结温"(Junction Temperature)是指半导体器件(如二极管、晶体管、集成电路芯片)内部核心工作区域——PN结或沟道区域的温度。它是器件在实际工作状态下产生的热量导致的温度升高值,直接影响器件的性能、可靠性和寿命。其核心概念解析如下:
结温(Tj)是电流流经半导体材料时因载流子碰撞和电阻损耗产生热量的直接结果。当器件功耗(P)产生的热量超过散热能力时,结温会持续上升。其数学关系可表示为: $$ Delta Tj = P times R{theta j-a} $$ 其中:
重要性:
结温超过额定值(如硅器件通常为150°C)会导致材料晶格损伤、载流子迁移率下降,甚至发生热失控(Thermal Runaway),引发器件永久失效。
间接测量法
通过热阻模型计算:已知功耗$P$和封装热阻$R_{theta j-c}$(结到壳),结合外壳温度$T_c$推算: $$ T_j = Tc + P times R{theta j-c} $$ 行业标准(如JEDEC JESD51)要求使用红外热像仪或热电偶校准。
关键影响因素
实际使用中需将结温控制在额定值的80%以下,例如功率MOSFET在$T_a$=85°C时需限制功耗。
通过ANSYS IcePak或COMSOL多物理场仿真预测热分布,优化散热路径。
氮化镓(GaN)器件因更高禁带宽度(3.4eV),允许结温达200°C,提升功率密度。
结温是半导体可靠性的核心物理量,其精确控制依赖于热设计、材料特性与工况管理的协同优化。工程师需结合热力学模型与实测数据,确保器件在安全温度窗口内运行。
结温(Junction Temperature)是半导体器件中核心芯片(如晶圆、裸片)的最高工作温度,通常高于外壳和表面温度。以下是综合解释:
结温是半导体可靠性的关键指标,需结合热阻、功耗和环境温度综合管理。具体参数需参考器件数据手册,实际应用中可通过优化散热设计延长寿命。
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