
【电】 indirect-gap semiconductor
间接跃迁半导体(Indirect Bandgap Semiconductor) 指电子在导带最小值与价带最大值之间跃迁时需借助声子(晶格振动)参与以满足动量守恒的半导体材料。其能带结构中,导带底(CBM)与价带顶(VBM)位于布里渊区的不同k空间位置(如图1所示),导致电子跃迁过程伴随动量变化(Δk ≠ 0)。这一特性显著影响其光学与电学性质:
电子从价带跃迁至导带时,需吸收或发射一个声子以补偿动量差(公式:$hbar Delta k = hbar q_{text{声子}}$)。该过程概率低于直接跃迁,导致光吸收/发射效率较低。
间接跃迁的辐射复合速率慢,非辐射复合(如热耗散)占主导,因此不适合制造高效发光器件(如LED、激光器)。
特性 | 间接跃迁半导体 | 直接跃迁半导体(如GaAs) |
---|---|---|
跃迁过程 | 需声子参与(Δk ≠ 0) | 无需声子(Δk = 0) |
发光效率 | 低(<1%) | 高(>50%) |
典型器件 | 太阳能电池、CPU | 激光二极管、高效LED |
间接跃迁的光吸收系数(α)满足:
$$
alpha(hbaromega) propto frac{(hbaromega - E_g pm E_p)}{e^{hbaromega/kT} - 1}
$$
其中$E_g$为带隙,$E_p$为声子能量,"±"对应吸收/发射声子过程。
来源参考:
以下是关于“间接跃迁半导体”的详细解释:
间接跃迁半导体是指其导带的最低能量点(导带底)和价带的最高能量点(价带顶)在动量空间(k空间)中位置不同的半导体。这种能带结构导致电子在跃迁时需同时吸收或发射声子(晶格振动的能量量子)以满足动量守恒。例如,硅(Si)和锗(Ge)是典型的间接带隙半导体。
跃迁机制:
电子从价带跃迁到导带时,不仅需要吸收光子能量,还需要与晶格振动(声子)相互作用以补偿动量差。这种过程称为间接跃迁,其发生概率远低于直接跃迁。
发光效率低:
由于需要声子参与,间接跃迁的复合发光效率较低,因此这类半导体通常不适用于发光二极管(LED)等光电器件。
光吸收特性:
间接带隙半导体的光吸收系数较小,需要更厚的材料才能完全吸收光能(如硅太阳能电池需数百微米厚度)。
主要应用:
虽然发光效率低,但间接带隙半导体在太阳能电池(硅基光伏材料)和集成电路(硅基芯片)中广泛应用,因其载流子寿命长、稳定性高。
常见材料:
硅(Si)、锗(Ge)等。相比之下,直接带隙半导体(如砷化镓GaAs)则更适用于激光器和光电探测器。
直接跃迁与间接跃迁的吸收光谱差异显著:间接跃迁的吸收光子能量通常低于禁带宽度(需声子辅助),而直接跃迁吸收的光子能量严格等于禁带宽度。
如需进一步了解半导体的分类或应用场景,可参考相关文献或权威资料(如)。
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