
【计】 parasitic transistor
在半导体器件领域,寄生晶体管(Parasitic Transistor)指集成电路制造过程中非预期形成的双极型晶体管结构。该现象源于半导体材料分层结构间的物理特性:当N-P-N或P-N-P型区域因掺杂工艺形成非设计性连接时,会构成双极结型晶体管(BJT)的寄生效应。
这种结构常见于CMOS工艺中,源/漏区与衬底间可能形成寄生BJT。美国电气电子工程师学会(IEEE)的器件可靠性研究报告指出,寄生晶体管导通可能引发闩锁效应(Latch-up),导致电路功能异常甚至永久损坏。国际半导体技术路线图(ITRS)数据显示,在90纳米以下工艺节点中,寄生效应引发的失效占比达12%-15%。
台湾积体电路制造公司(TSMC)的技术白皮书建议采用保护环(Guard Ring)结构和深阱掺杂工艺来抑制寄生晶体管效应。日本东芝公司的实验数据显示,三重阱结构可使寄生BJT的电流增益β值降低83%。
寄生晶体管(Parasitic Transistor)是集成电路中因结构或工艺限制而非故意形成的晶体管效应,可能对电路性能产生负面影响。以下是综合多个来源的详细解释:
基本概念
寄生晶体管并非独立元件,而是由于半导体器件或电路布局中相邻区域的相互作用,在特定条件下形成的非预期晶体管结构。例如,集成电路中的PN结隔离区或MOSFET的源漏极之间可能形成寄生双极型晶体管(如NPN或PNP)。
寄生效应来源
触发条件
典型问题
寄生晶体管是集成电路设计中需重点控制的非理想效应,其影响因工作状态而异。理解其机制有助于优化芯片性能和可靠性。如需进一步了解具体案例,可参考集成电路设计相关文献。
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