
【计】 MOS logic gate
metal
【化】 metal
【医】 metal
【经】 metal
oxygen
【医】 o; O2; oxy-; oxygen; oxygenium; phlogisticated gas
content; matter; substance; thing
【化】 object
【医】 agent
half; in the middle; semi-
【计】 semi
【医】 demi-; hemi-; semi-; semis; ss
【经】 quasi
guide; lead; teach; transmit
【医】 guidance; guide
【电】 logical gate
金属氧化物半导体逻辑门(Metal-Oxide-Semiconductor Logic Gate,简称MOS逻辑门)是集成电路中基于场效应晶体管(FET)构建的数字逻辑电路核心组件。其名称源于结构特征:由金属(Metal)电极、氧化物(Oxide)绝缘层和半导体(Semiconductor)衬底构成的三层堆叠结构。
金属氧化物半导体(MOS)
对应英文“Metal-Oxide-Semiconductor”,指由金属栅极、二氧化硅(SiO₂)绝缘层和硅基半导体组成的器件结构。该结构通过电场效应控制电流导通与关断。
逻辑门功能
实现布尔逻辑运算(如与门AND、或门OR、非门NOT)的基础单元,通过MOS晶体管的组合完成信号处理。例如,CMOS(互补MOS)技术利用N型与P型MOS管互补降低功耗。
“金属氧物半导逻辑门”是电子工程领域的术语,结合了材料科学与数字电路技术。以下分两部分详细解释:
金属氧化物半导体(MOS)
指由金属(如铝)、氧化物(如二氧化硅)和半导体(如硅)组成的结构。这种结构通过电场效应控制电流,是晶体管的核心技术。提到,金属氧化物广泛用于工业催化剂、干燥剂等领域,而在半导体中,二氧化硅等氧化物常作为绝缘层。
逻辑门
数字电路的基本单元,用于实现布尔逻辑(如与、或、非门)。MOS逻辑门即采用MOS技术制造的逻辑电路元件,具有低功耗、高集成度特点。
当前主流的CMOS(互补型MOS)技术即基于此原理,进一步降低了静态功耗,成为集成电路的基石技术。
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