
【电】 metallic contact
metal
【化】 metal
【医】 metal
【经】 metal
contact; contiguity; get in touch with; meet; osculate; osculation; tangency
touch
【医】 c.; contact; contiguity; hapt-; hapto-; per contiguum; taction; tactus
touch
在电子工程和材料科学领域,"金属接触"(Metal Contact)指两种或多种金属表面直接物理接触形成的界面,其核心特性在于界面处的电传导行为。根据接触形式和应用场景,该术语具有多层含义:
物理接触
指金属物体间的直接触碰,如开关触点、连接器引脚等。此时接触电阻(Contact Resistance)是关键参数,受表面粗糙度、清洁度和接触压力影响。
电气特性
金属接触界面会形成微观电流通路,其导电性取决于金属的功函数(Work Function)差异。例如铜(Cu, 功函数≈4.7 eV)与金(Au, 功函数≈5.1 eV)接触时可能产生微小电势差。
半导体器件
在集成电路中,金属接触特指金属层与半导体材料(如硅)的界面,用于形成欧姆接触(Ohmic Contact)或肖特基接触(Schottky Contact)。前者要求接触电阻极小(通常<10⁻⁶ Ω·cm²),后者具有整流特性。
电化学领域
不同金属接触可能引发电偶腐蚀(Galvanic Corrosion),例如铝(Al)与铜(Cu)在潮湿环境中接触时,铝会作为阳极加速腐蚀。其腐蚀速率可通过电偶序(Galvanic Series)预测。
中文术语 | 英文术语 | 定义来源 |
---|---|---|
金属接触 | Metal Contact | 《牛津电子工程词典》ISBN 9780199587436 |
接触电阻 | Contact Resistance | IEEE标准1138-2017《电子设备电气接触测试方法》 |
欧姆接触 | Ohmic Contact | 美国物理学会《应用物理评论》(Appl. Phys. Rev.) 2020年金属-半导体界面专题 |
电偶腐蚀 | Galvanic Corrosion | NACE国际标准RP0169《埋地金属管道腐蚀控制》 |
可靠性设计
航天级连接器需采用金镀层(厚度≥1.27 μm)防止氧化,接触压力通常设计在50-300 cN范围内以保持稳定电阻(MIL-DTL-83513G标准)。
失效机制
微动磨损(Fretting)是常见故障,如锡镀层接触件在振动环境中易生成绝缘的SnO₂,导致电阻跃升(参考《电子连接器手册》第7章)。
注:本文定义综合IEC 60512(电工连接器测试标准)、ASTM G71(电偶腐蚀指南)及《现代电子封装材料》(清华大学出版社,2022)等权威文献。具体参数请以最新行业标准为准。
“金属接触”指两种或多种金属材料直接接触的物理状态,常见于电子工程、材料科学等领域。以下是详细解释:
基本定义
金属接触指金属表面之间通过物理接触形成导电通路的现象,其核心特性是依靠金属的自由电子传导电流。例如电路中的导线连接、电子元件的引脚焊接等均依赖这一原理。
应用领域
关键问题与影响
优化方法
通过表面镀层(如镀金防氧化)、退火处理(调整材料晶格结构)或使用合金材料提升接触可靠性。
如需进一步了解具体案例(如碲镉汞接触工艺),可参考的学术文献。
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