
【机】 lug
protruding
【医】 convexity; cyrto-; prominence; prominentia
lump; agglomeration; clump; dollop; loaf
【计】 B; block
【医】 block; lump; mass; massa
在汉英词典中,"凸块"对应的核心英文翻译为"protrusion"或"bump",指物体表面局部隆起的块状结构。该术语在工程制造领域具有特定技术含义,根据《牛津汉英大词典》(Oxford Chinese Dictionary)第3版定义,其本质特征是三维尺寸中至少一个方向的尺寸明显突出于基体表面。
从机械工程角度分析,《现代机械工程术语手册》将凸块细分为三类功能形态:
根据中国国家标准GB/T 1800.2-2020《产品几何技术规范》要求,工业用凸块需标注高度(H)、基底直径(D)和锥角(α)三个关键参数,其数学表达式为:
$$
H = frac{D}{2tan(alpha/2)}
$$
该公式揭示了凸块几何尺寸间的内在关联性。在半导体制造领域,IBM研究院2023年技术报告指出,先进封装使用的铜凸块(copper bump)间距已突破10μm技术节点,相关工艺涉及电镀、回流焊等18道精密工序。
“凸块”是半导体封装领域的技术术语,主要指芯片表面用于电气互连的金属凸起结构。以下是详细解释:
在集成电路制造中,“凸块”(Bump)指通过工艺技术在晶圆表面形成的金属凸起结构,具备导电性,用于芯片与基板之间的电气连接。其英文对应为“Bump”或“μBump”(微凸块)。
制造工艺
凸块通常在晶圆制程后期加工形成,例如通过电镀、沉积等方式定向生长金属凸起,再切割成单个芯片。常见的材质包括金、铜镍合金、焊料(如无铅焊料)等。
核心作用
凸块替代传统引线键合,提供更小间距、更高密度的互连,满足芯片小型化、轻薄化需求,广泛应用于倒装焊(FC)、晶圆级封装(WLP)、3D封装等领域。
根据材质和结构,凸块主要分为:
需注意,“凸块”(tū kuài)与医学或日常用语中的“肿块”(zhǒng kuài)不同,后者指人体或物体表面的异常凸起(如肿瘤、疮疖等),二者应用场景和含义无关联。
如需进一步了解技术细节,可参考冯明宪博士关于CoWoS封装的演讲或2025年微凸块市场分析报告。
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