蚀刻术英文解释翻译、蚀刻术的近义词、反义词、例句

英语翻译：

etching

分词翻译：

蚀刻的英语翻译：

etch
【化】 etching

术的英语翻译：

art; method; skill
【医】 technic; technique

专业解析

蚀刻术（Etching）是一种利用化学或物理方法在材料表面形成精细图案的加工技术，其英文对应词源可追溯至古英语"etian"（腐蚀）。该技术广泛应用于微电子制造、印刷制版及艺术创作领域，具体包含两种主要工艺形式：

1. 化学蚀刻（Chemical Etching） 通过酸性溶液（如硝酸、氢氟酸）或碱性溶液与金属/玻璃表面发生氧化还原反应，精确溶解非保护区域的材料。现代半导体工业中，该工艺可实现纳米级线宽控制，英特尔10纳米芯片制造即采用改良的氨水双氧水混合溶液进行硅晶圆蚀刻。

2. 物理蚀刻（Physical Etching） 采用离子束（如氩离子）轰击材料表面，通过动能转移实现原子级剥离。美国材料与试验协会（ASTM）标准F1276-02规定，等离子体蚀刻在OLED面板制造中的误差需控制在±1.5μm范围内。

权威文献参考：

• 《牛津材料科学手册》（Oxford Handbook of Materials Science）第7章表面处理技术
• 中国机械工程学会《特种加工术语国家标准》（GB/T 14896.3-2018）

网络扩展解释

蚀刻术是一种通过化学或物理手段对材料表面进行选择性去除的加工技术，主要用于制造精密结构或图案。以下是其核心要点：

一、定义与原理

蚀刻术通过化学溶液（如酸性/碱性试剂）或物理撞击（如等离子体），去除材料表面未被保护膜覆盖的部分，形成凹凸或镂空图案。其核心原理是选择性腐蚀，即通过光刻胶等掩膜材料保护特定区域，暴露区域与蚀刻剂反应被溶解。

二、分类与技术特点

1. 湿法蚀刻
   • 使用液态化学试剂（如硝酸、氢氟酸），操作简单且成本低。
   • 缺点：各向异性差，易产生横向钻蚀，适合精度要求不高的场景。
2. 干法蚀刻
   • 采用等离子体或气体（如反应离子刻蚀RIE），具有高各向异性，能实现纳米级精度。
   • 常用于半导体和硬脆材料（硅、玻璃）加工。

三、关键步骤

1. 表面准备：清洁材料并涂覆光刻胶，通过曝光显影定义图案区域。
2. 蚀刻处理：浸入化学溶液或置于气体环境中腐蚀暴露区域。
3. 后处理：清洗残留蚀刻剂，去除保护层，获得最终结构。

四、应用领域

• 半导体制造：芯片电路微细加工。
• 精密零件：不锈钢滤网、微型金属件（无毛刺、不变形）。
• 印刷工艺：制作铜版、锌版等印刷模板。

五、技术优势

• 高精度：可达微米甚至纳米级。
• 无机械应力：避免传统冲压导致的材料变形。
• 灵活性强：无需模具，适合小批量定制化生产。

如需更完整信息，可参考维库电子市场网与科易网的技术解析。

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