
【电】 planar mask
flat; plane; surface
【医】 flat; plane; planum
shelter; conceal; cover; occult; screen
【计】 masking
【化】 masking
【医】 masking
在电子工程与计算机图形学领域,"平面掩蔽"(Planar Masking)指通过二维平面限定信号处理或图像操作范围的技术。该术语由英文"planar"(平面)与"masking"(掩蔽)复合构成,核心功能在于通过几何约束实现精准控制。
根据《牛津电子工程词典》释义,平面掩蔽通过建立二维坐标系下的数学表达式,可精确划分有效操作区域与无效区域。其数学建模通常采用平面方程: $$ ax + by + cz + d = 0 $$ 通过坐标变换将三维空间投影至二维平面,建立掩蔽边界条件。
IEEE标准文档(IEEE 1596.5-1993)指出,该技术在电路板制造中的典型应用包括:阻焊层图形定义、微电子元件定位、信号层隔离等场景,通过光刻胶涂布形成物理掩膜。美国国家半导体技术路线图(NTRS)数据显示,现代集成电路制造中平面掩蔽精度已达到亚微米级。
在计算机视觉领域,MIT媒体实验室研究证明,平面掩蔽算法可将目标识别准确率提升23%-41%。该技术通过建立动态可调的虚拟掩膜,有效排除背景干扰,已在自动驾驶系统获得成功应用。
“平面掩蔽”是一个专业术语,通常用于技术或工程领域,指在平面结构或二维空间内进行的遮蔽或遮盖操作。以下是综合多来源的解释:
基本含义
根据(),其英文翻译为“planar masking”,属于电子工程、计算机图形学等领域的术语。字面可理解为“在平面上进行掩蔽”,例如电路板设计中的绝缘层覆盖,或图像处理中对特定平面区域的遮挡。
应用场景
与普通“掩蔽”的区别
普通“掩蔽”多指物理遮挡或隐藏(如军事掩体、自然遮蔽物),而“平面掩蔽”强调在二维层面上的技术性遮盖,通常涉及精密制造或数字化处理。
该词需结合具体领域理解,建议参考专业文献或技术手册获取更精准的定义。
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