
【化】 escape peak
escape; run away
【电】 runaway
apex; apices; hump; peak; summit
【化】 peak
【医】 peak; spike
在汉英词典语境中,"逃逸峰"对应的英文术语为"escape peak",指质谱分析中由于离子逃逸现象产生的次级信号峰。该现象通常出现在飞行时间质谱仪(TOF-MS)中,当部分高能离子穿透检测器屏蔽层时,会形成滞后于主峰的干扰信号。
根据《分析化学术语标准》(全国科学技术名词审定委员会,2018版),逃逸峰的形成机制与离子动能分布相关。当入射离子动能超过检测器材料的电子结合能时,会产生穿透性电子流,导致检测信号出现时间延迟。这种现象在痕量元素检测中可能影响检测限,需通过优化加速电压或采用脉冲计数技术进行抑制。
国际纯粹与应用化学联合会(IUPAC)建议在质谱图中标注Epeak符号表示逃逸峰,其强度计算公式为: $$ I_e = I_0 cdot e^{-beta t} $$ 其中β为检测器材料的衰减系数,t为离子飞行时间。
逃逸峰是X射线或γ射线能谱分析中的一个特征现象,主要与探测器材料的相互作用有关。以下是综合多来源信息的详细解释:
基本定义
逃逸峰是指在能谱中出现在主峰(全能峰)低能量侧的次级峰。当高能光子(如X射线或γ射线)进入探测器时,若其能量高于探测器材料的吸收限(如硅的K吸收限约1.74 keV),会激发材料原子产生特征X射线(如硅的Ka X射线)。若这些次级X射线逃逸出探测器未被记录,入射光子的总能量会被“扣除”逃逸的X射线能量,从而在能谱上形成逃逸峰。
形成机制
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